探针电子束光刻机（扫描探针电子束光刻系统P-SPL21）

本文由 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 整理汇编

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• 探针电子束光刻机（扫描探针电子束光刻系统P-SPL21）

  公司推出的探针电子束光刻机P-SPL21,利用探针在近光刻胶表面发射低能电子的原理实现光刻效果。该系统的主要特点在于： （1）几乎无邻近效应，能实现3-5nm线宽的超精细光刻结构； （2）用于发射电子的探针同时具有原子力显微镜功能，能够实现亚纳米级精准定位并原位测量曝光图型； （3）超高写场拼接精度（≤2nm），且能够抑制电子束长时间产生的空间漂移（≤5nm）。 百及纳米科技的探针电子束光刻系统能够实现光刻与原子力显微镜表征的双重功能，是一款理想的用于微纳制造和表征尺寸小于5nm线宽结构的一体化系统。[详细]

  2024-09-14 06:17

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• 电子束光刻机（多功能超高精度电子束光刻机P21）

  电子束光刻机（多功能超高精度电子束光刻机P21） 依托垄断性专利技术，百及纳米推出国际领先的超高精度大面积写场电子束光刻机 P21 系列。 百及纳米S次开发了新一代电子束光刻机的电子束闭环控制新原理。百及超高精度电子束光刻机 P21 是第一款新一代电子束光刻机的代表，在著名电子束光刻机制造商德国 Raith 公司的成熟机型上 升级而成。该系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三个型号，区别主要在于样品尺寸（2，4，6 英寸晶圆）及扩展使用功能。P21 不仅完整地保留了原电子束光刻机的整体功能，且集多项国际领先的关 键指标于一身，包括： • 国际上S次开发的新颖电子束闭环控制系统，能够实现电子束的原位检测与校正; • 国际领先的写场拼接精度≤2 nm; • 电子束光刻的长期稳定性。精确校正电子束的空间漂移，将其位置稳定性提高到≤10 nm/h； 有利于通过提高电子束光刻时间实现大尺寸图形的曝光需求。 百及纳米的 P21 系列以常规电子束光刻机为载体，通过独家专利技术对其进行功能及性能指标的大幅提升。P21 光刻机组件均为德国原装制造。[详细]

  2022-09-05 22:02

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