预算3570万 清华大学采购电感耦合等离子体增强化学气相沉积

　　近日，清华大学异质接触与互连溅射台、电感耦合等离子体增强化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD 3和通用电子束蒸发台采购项目进行公开招标，招标项目的潜在投标人应在http://www.oitccas.com/获取招标文件，并于2024年01月16日 13点30分开标。

　　一、项目基本情况

　　项目编号：OITC-G240270063 /清设招第20230337号

　　项目名称：清华大学异质接触与互连溅射台采购项目

　　采购需求：

　　异质接触与互连溅射台采购1套，预算金额：480万元，国产，项目拟购置设备为异质接触与互连溅射台，可实现多靶位共溅射，主要用于MEMS 三维异质异构集成与 MEMS执行器加工。

　　项目编号：OITC-G240270064/清设招第20230352号

　　项目名称：清华大学电感耦合等离子体增强化学气相沉积(ICP-CVD)采购项目

　　采购需求：

　　电感耦合等离子体增强化学气相沉积(ICP-CVD)采购1套，预算金额：640万元，允许进口。

　　用途：本设备通过电感耦合(ICP)方式产生高密度等离子体，在半导体或有机材料衬底上沉积低温高致密低应力的氧化硅、氮化硅等介质膜，主要用于MEMSOIS加工，具体应用包括：

　　(1)MEMS OIS 稳像器低应力薄膜沉积;

　　(2)支撑氮化硅、氧化硅低温低应力高致密度薄膜沉积。

　　项目编号：OITC-G240270065 /清设招第20230362号

　　项目名称：清华大学等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD 3腔)采购项目

　　采购需求：

　　等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD 3采购1套，预算金额：1650万元，国产。

　　用途：本设备为 MEMS 陀螺、加速度计、执行器、OIS、压力计的主要成膜设备。

　　具体应用包括：

　　1.支撑各型 MEMS 器件金属前、后的氧化硅、氮化硅介质膜快速沉积;

　　2.考虑金属前、后的交叉污染问题，对一期设备进行补充。

　　项目编号：OITC-G240270066/清设招第20230359号

　　项目名称：清华大学通用电子束蒸发台采购项目

　　采购需求：

　　通用电子束蒸发台采购2套，预算金额：800万元，允许进口，通用电子束蒸发台为常温下高纯度金属薄膜制备的主要设备，主要用于各类 MEMS 器件的 PVD 工艺。具体应用包括：顶电极制备和深硅刻蚀的金属掩蔽层制备等。

　　本项目( 不接受 )联合体投标。

　　二、获取招标文件

　　时间：2023年12月26日 至 2024年01月03日，每天上午9:00至11:00，下午13:00至17:00。(北京时间，法定节假日除外)

　　招标文件采用网上电子发售购买方式：

　　1)登陆“东方招标”平台(http://www.oitccas.com/)完成投标人注册手续(免费)，然后登陆系统寻找有意向参与的项目，已注册的投标人无需重新注册。招标文件售价：人民币600 元。如决定购买招标文件，请完成标书款缴费及标书下载手续。

　　2)投标人可以电汇的形式支付标书款(应以公司名义汇款至下述指定账号)。

　　开户名称：东方国际招标有限责任公司

　　开户行：招商银行北京西三环支行

　　账 号：862081657710001

　　3)投标人应在平台上填写开票信息。在投标人足额缴纳标书款后，标书款电子发票将发送至投标人在平台上登记的电子邮箱，投标人自行下载打印。

　　三、提交投标文件截止时间、开标时间和地点

　　提交投标文件截止时间：2024年01月16日 13点30分(北京时间);

　　开标时间：2024年01月16日 13点30分(北京时间);

　　地点：北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层东方厅(一)。

　　四、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。

　　1.采购人信息

　　名 称：清华大学

　　地址：北京市海淀区清华大学

　　联系方式：010-62780052

　　2.采购代理机构信息

　　名 称：东方国际招标有限责任公司

　　地　址：北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层

　　联系方式：窦志超、王琪、李安齐，010-68290523、010-68290507

　　3.项目联系方式

　　项目联系人：窦志超、王琪、李安齐

　　电　话：010-68290523、010-68290507