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• 2025-01-14 17:00发布了技术文章

  二氧化硅的离线和在线粒度分析

  二氧化硅广泛用于工业应用，包括干燥剂、粘合剂、造纸、催化剂以及作为CMP抛光液的磨料，Entegris在这些领域拥有丰富的经验。

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• 2025-01-08 17:45发布了行业资讯

  在线培训课程公告 | 2025年奥法美嘉仪器使用培训线上课程安排及报名通道

  为帮助各位新老客户更全面地掌握仪器设备的操作与应用，奥法美嘉将定期举办仪器使用线上培训会。

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• 2024-12-19 16:30发布了技术文章

  一次性系统中的颗粒物污染水平

  一次性使用系统（SUS）的利用持续增长，其纯度问题及对高价值最终产品的生物制造、存储和运输的潜在影响进行了更多的研究。特别注意通过ISO5级洁净室制造和使用AccuSizer?液体颗粒计数器进行质量控制（QC）测试污染，以尽量减少颗粒污染。

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• 2024-12-17 17:45发布了技术文章

  CMP抛光液的平均粒径与Zeta电位分析

  化学机械抛光/平坦化（CMP）是微电子行业广泛使用的一种通过化学力和机械力结合使表面光滑的工艺。该工艺使用研磨腐蚀性抛光液来帮助晶圆表面平坦化。

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• 2024-12-12 17:23发布了技术文章

  蛋白质聚集——Nicomp 动态光散射系统

  蛋白质聚集——Nicomp 动态光散射系统

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• 2024-12-10 16:26发布了技术文章

  增材制造粉末中粒径的重要性

  增材制造(AM)或三维(3D)打印可以使用各种材料进行，包括液体树脂、聚合物和金属粉末当使用聚合物和金属粉末时,粒度分布对于可加工性和最终零件质量非常重要。

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• 2024-11-19 10:27发布了行业资讯

  CIPM制药机械展，国际馆二馆-生物制药专区2-75-2展位，奥法美嘉期待您的莅临

  专注于为复杂制剂提供从生产制备到粒度表征的高精度粒度解析-奥法美嘉

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• 2024-11-18 14:07发布了技术文章

  复杂注射剂之乳剂制备工艺探讨

  随着科技的不断进步，新型乳化剂的研发将成为重要方向。科学家们将致力于开发更加高效、安全且具有特定功能的乳化剂，以满足不同领域对乳剂性能的更高要求。

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• 2024-11-11 11:45发布了技术文章

  LUM稳定性分析设备在处方筛选中的作用

  LUM稳定性分析设备在处方筛选中的作用

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• 2024-11-08 17:30发布了行业资讯

  展会邀请 | 奥法美嘉邀您共聚第65届 CIPM 厦门药机展

  展会邀请 | 奥法美嘉邀您共聚第65届 CIPM 厦门药机展

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• 2024-11-05 17:34发布了技术文章

  大颗粒（LPC）对抛光效率和良品率的影响 — TEOS层的CMP抛光研究

  TEOS 是一种特殊的二氧化硅，以四乙基硅酸盐为原料沉积而成，作为阻挡层下的牺牲层。TEOS的均匀性和表面质量对集成电路的可靠性有着至关重要的作用，因此，本文探讨了LPC对TEOS表面质量和抛光过程的影响。

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• 2024-11-01 11:30发布了行业资讯

  【重要公告】关于第三方针对奥法美嘉销售设备提供的技术服务存在风险的通知

  【重要公告】关于第三方针对奥法美嘉销售设备提供的技术服务存在风险的通知

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• 2024-10-29 16:45发布了技术文章

  两种测定胶体稳定性的分析新技术:单颗粒光学传感技术（SPOS）和空间时间消光谱图（STEP）分析法

  胶体悬浮液在药物输送、软饮料制造、涂层、抛光等领域有广泛应用，其稳定性对产品性能、保质期、生产效率和成本控制至关重要。

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• 2024-10-15 17:45发布了技术文章

  复杂注射剂粒度表征的整体解决方案

  复杂注射剂的粒径控制是其制备中的关键一环，注射剂的平均粒径、不溶性颗粒以及尾端大颗粒是其质量控制的重要内容。

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• 2024-10-11 16:45发布了技术文章

  一种利用商用研磨液颗粒评估CMP过滤器拦截效率的新方法

  通过比较商用研磨液和PSL颗粒之间的拦截差异，使用这种新方法可以进一步确定过滤拦截效率。这有助于推进新的100纳米以下的CMP过滤介质的发展。

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• 2024-09-29 17:45发布了行业资讯

  邀请函 | 奥法美嘉诚邀您参加首届“SEMiBAY湾芯展” — 湾区半导体产业生态博览会

  首届“SEMiBAY湾芯展”—?湾区半导体产业生态博览会,将于2024年10月16日至18日在深圳会展中心（福田）举办。我们诚挚邀请您莅临奥法美嘉在本次展位(1号馆1Q02)，期待与您共话行业前沿技术。

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