黑体辐射源

KF-H3000是国内首款高达3000℃的超高温黑体，它具备快速加热、高精度和移动式设计等显著优势。相比国外同级别设备体积庞大、需专用空间的痛点，KF-H3000 采用立体滚轮设计，在保持同等高强性能...

HY-ML系列超低温面源黑体为真空环境适用的面源黑体产品，其温度控制采用薄膜型加热器件，主动降温则通过液氮或低温循环氦气实现。搭配自主研发的温度控制系统后，能够在较宽的温度区间内(150K~450K,...

HY-MH系列中温面源黑体采用薄膜型加热器件驱动温度，搭配自主研发的温度控制系统，实现宽温范围的精确调控。该设备兼具高均匀性、高发射率、高集成度与标准化程度，采购成本更具优势，适用于实验室与外场等多种...

HY-MQ系列高温面源黑体作为一直高辐射强度的参考源，设备支持环境温度+5℃~550℃的绝对温度调节，辐射面具备高均匀度与高发射率特点，温度分辨率达0.01K，且能在20℃~70℃的环境下稳定运行，广...

HY-MS系列超精密面源黑体可输出标准红外辐射，为红外成像器的地面辐射定标试验与性能测试提供稳定基准。该系列采用TEC温度驱动方式，搭配自主研发的温度控制系统，实现宽温范围内的精确调控。凭借高发射率、...

SW-DT-R 系列低温黑体校准源覆盖-30℃至150℃宽广温区，为低温至中温校准场景提供全面支持。

LC-DT-R系列专为低温至105摄氏度的市场设计，其温度范围甚至可低于零下70摄氏度。该系列设备设计紧凑，便于携带。通过采用数字控制技术，操作变得极为简便。内置的RTD传感器确保目标温度能够精确控制...

HW 系列便携式黑体校准源覆盖环境温度至数百摄氏度，集成度高。其内置数字指示控制器支持在环境温度 +5℃ 至 950℃ 范围内设定温度。设备使用 RTD 传感器，温度稳定性可达 ±0.2℃。该系列具备...

QF-1700 温度校准辐射源适用于宽温度范围（100℃ 至 1700℃），满足多种温度校准需求。QF-1700 凭借其稳定的控温性能、安全防护及结构可靠性，广泛应用于实验室和工业领域的高温校准场景。

QF 系列高温黑体校准源覆盖 100℃ 至 1500℃ 温度范围，采用 25.4mm 孔径封闭管腔设计。QF-1500 黑体校准源硅钼棒便于更换，维护便捷的特点使其适用于实验室及工业领域的高温校准需求...

在国内高温黑体领域发展初期，1500℃以上的黑体产品常面临加热耗时、测温精度不足及设备笨重等问题。KF 超高温系列高温黑体辐射源的推出，成功突破了这些技术瓶颈。 依托尖端加热技术，KF 系列实现快速...

KF-H3000是国内首款高达3000℃的超高温黑体，打破了美俄等国在该领域的技术与市场垄断，成功攻克温度稳定性不足和加热速度缓慢等多项技术难题，填补国内市场在高端高温黑体领域的空白。 它具备快速加...