详细介绍
ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
特点：
1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；
2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果；
3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；
4.根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。
型号 | ETD-900 |
主机规格 | L360mm*W300mm*H380mm |
靶（上部电极） | 金：直径：50mm，厚度：0.1mm |
真空样品室 | 直径：160mm，高：120mm |
溅射面积 | Ф50mm |
真空指示表 | 最高真空度：≤4X10-2mbar |
离子电流表 | 最大电流：50mA(100mA) |
定时器 | 最长时间：3600S |
微型真空气阀 | 可连接φ3mm软管 |
可通入气体 | 多种 |
最高电压 | -1600DCV |
机械泵 | 2L/S |
