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意力博通溅射仪ETD-900

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详细介绍

ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。

特点:

1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;

2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;

3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;

4.根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。

型号

ETD-900

主机规格

L360mm*W300mm*H380mm

靶(上部电极)

金:直径:50mm,厚度:0.1mm

真空样品室

直径:160mm,高:120mm

溅射面积

Ф50mm

真空指示表

最高真空度:≤4X10-2mbar

离子电流表

最大电流:50mA(100mA)

定时器

最长时间:3600S

微型真空气阀

可连接φ3mm软管

可通入气体

多种

最高电压

-1600DCV

机械泵

2L/S

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