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意力博通溅射仪ETD-2000C

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详细介绍

ETD-2000C溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。

满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。

特点:

在ETD-2000/3000离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

型号

ETD-2000c

仪器尺寸

400mm×300mm×400mm(L×W×H)

靶(上部电极)

50mm×0.1mm(D×H)

真空样品室

硼硅酸盐玻璃160mm×110mm(D×H)

样品台

50mm(D)

操作真空

4×10-1mbar至2×10-2mbar

工作电压

0-1600V(DC)可调

溅射电流

0-50mA

溅射定时

1-9999S

蒸碳电流

0-10A(AC)

真空泵

2升机械旋转泵

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