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889产品参数合模压力：15吨；压台材质：纯轧制钢材质；滑块行程：152毫米；开口高度：0毫米~305毫米（可调）；加热温度：343℃（可升级到426℃）；压板尺寸：152毫米x152毫米；数码控制系

SD-UV系列PSD系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度UV格栅灯盘, 和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。4英寸

胶机(英文名：Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜详细介绍：匀胶机(英文名：Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、涂层

胶机(英文名：Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜详细介绍：匀胶机(英文名：Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀膜机、涂层

、产品概述： POLOS系列匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。二

、产品概述： POLOS系列匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。二

胶显影机(英文名：Developing)产地：美国 一、产品概述： 650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷

牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ800-6产地：美国 恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q8000系列光刻机

牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ800-6产地：美国 恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q8000系列光刻机

893产品参数合模压力：15吨；压台材质：纯轧制钢材质；滑块行程：152毫米；开口高度：0毫米~305毫米（可调）；加热温度：343℃（可升级到426℃）；压板尺寸：305毫米x305毫米；数码控制系

895产品参数合模压力：30吨；压台材质：纯轧制钢材质；滑块行程：152毫米；开口高度：0毫米~305毫米（可调）；加热温度：343℃（可升级到426℃）；压板尺寸：305毫米x305毫米；数码控制系

球的实验室用热压机，可为您提供更多选择，更多特性，更高性能!国际标准Carver 热压机，有着90多年的专业经验，已经成为热压/液压领域的标准。现在实验室的压机有4350压实密度仪，主要用于红外分析仪

球的实验室用热压机，可为您提供更多选择，更多特性，更高性能!国际标准Carver 热压机，有着90多年的专业经验，已经成为热压/液压领域的标准。现在实验室的压机有4350压实密度仪，主要用于红外分析仪

球的实验室用热压机，可为您提供更多选择，更多特性，更高性能!国际标准Carver 压片机，有着90多年的专业经验，已经成为热压/液压领域的标准。现在实验室的压机有4350压实密度仪，主要用于红外分析仪

胶机(英文名：Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍：匀胶机(英文名：Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪、涂胶机、镀

牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ400-6产地：美国 恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机