高真空单辊旋淬系统用于各种金属材料在真空或气氛保护条件下的感应熔炼及快冷甩带成型；适合各种材料的非晶/微晶薄带或薄片的制备。
实验型采用冷滚旋淬法制备薄片或薄带非晶材料,本设备主要由真空腔体、熔炼装置、喷铸装置、甩带装置、抽真空系统、炉体支架、电气控制系统、水冷却系统等组成。
| 产品型号 | 高真空单辊旋淬系统 |
| 主要特点 | 实验型采用冷滚旋淬法制备薄片或薄带非晶材料,本设备主要由真空腔体、熔炼装置、喷铸装置、甩带装置、抽真空系统、炉体支架、电气控制系统、水冷却系统等组成。 |
| 技术参数 | 1、每次甩带、喷铸合金：50g~300g
2、每次熔炼浇铸合金：50~1000g
3、高真空室真空度：≤5.0×10E-3Pa
4、加热电源功率：25Kw； 频率范围：30~80KHz
5、可通入氮气、氩气等惰性气体
6、铜辊直径：220mm，宽度：40mm
7、铜辊线速度：5~70m/S
8、水流量：3~100L/min
真空腔体由炉体、炉盖和炉底组成；炉体由304不锈钢法兰和内外筒体组焊而成，内壁镜面抛光，炉盖由整体实心304加工而成，上面开设有大直径观察窗，可直观的观测到炉内的各种实验情况；炉门由整体实心304加工而成。
甩带装置：由喷铸装置、高速调速电机、磁流体密封装置和铜棍等组成，可通过调节电机速度，实现不同铜棍线速度。
抽真空系统：由一台分子泵、一台双极直联泵、三台气动挡板阀、真空管路和真空计等组成，冷态极限真空度优于8.0×10E-5Pa。
炉体支架：由型材和钢板拼装而成，电控柜采用一体结构。 面板采用模拟屏，可直观控制设备的各部件，并有水欠压、断水声光报
警并自动切断加热功能。
水冷却系统：由水冷机、各种阀门和水管等组成，带有电接点水压表，具有超压、欠压报警功能。 |
