Allresist公司于1992年成立，延续了德国Fotochemische Werke Berlin公司30多年的光刻胶研究工艺，专门从事光刻工艺所需电子化学品的研发、生产和销售，产品包括各种光刻工艺中使用的光学光刻胶、电子束光刻胶以及相关工艺中配套的显影液、定影液、稀释剂、除胶剂、增附剂等化学试剂。