微型高真空磁控溅射仪

ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。

配置参数如下：

仪器尺寸：480mmWx320mmDx240H

工作腔室：硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH

真空系统：涡轮分子泵，抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器

真空测量：采用复合真空计检测真空

极限真空度：优于5X10^-4Pa

工作真空度：5X10^-1Pa（溅射真空度手动调节）

溅射工作气体：氩气

工作电压：0-800V

溅射电流：0-500mA

电源：230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培）

靶材：D60-80mm多种弱磁靶

选配项：气体质量流量计，冷水机，可根据用户要求进行功能改装