产品简介

蒸发膜的厚度分布

蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。

在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行，有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了，直到找到**排列。

在本文中，我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度，在真空蒸发室中的单个旋转平板架上，并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。

更低的成本...更高的投资回报率 

离子辅助沉积可提供高要求的光学应用所需的高品质，无缺陷，低应力，环境稳定（无漂移）的薄膜。

您将受益于：

• 独立控制离子电流密度和离子能量以优化薄膜性能

• 长期运行，100％氧气或氮气反应气体稳定运行，延长运行时无过程漂移

冷阴极离子源是差分泵浦器件，等离子体腔室的一端通向真空环境。离子源的操作参数和薄膜的质量受控制真空度的参数的影响。在抽速很高的系统中制作好的薄膜要容易得多。当比较IAD薄膜沉积参数时，压力的差异可能是由泵浦速率引起的。

Desk V HP 专用电子显微镜样品制备
– 金/碳镀膜机特点(SEM / TEM / FE-SEM)

● 内置泵系统
● 极短的沉积时间
● 一致的沉积参数
● 图形界面彩色触摸板
● 薄膜厚度控制
● 样品清洁的蚀刻模式
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● 更多可选功能

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