详细介绍
产品特点：
?椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。
?0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。
?400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。
?可自由变换反射测量角度，得到更详细的薄膜解析数据。
?非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。
产品规格：
| 膜厚测量范围 | 0.1nm~ |
| 波长测量范围 | 250~800nm（可选择350～1000nm） |
| 感光元件 | 光电二极管阵列512ch（电子制冷） |
| 入射/反射角度范围 | 45～90o |
| 电源规格 | AC1500VA（全自动型) |
| 尺寸 | 1300（H）×900（D）×1750（W）mm |
| 重量 | 约350kg（全自动型） |
应用范围：
■半导体晶圆
?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等
?SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
?光阻剂光学常数(波长色散)
■化合物半导体
?AlxGa(1-x)As多层膜、非结晶矽
■平面显示器
?配向膜
?电浆显示器用ITO、MgO等
■新材料
?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜
■光学薄膜
?TiO2、SiO2、多层膜、抗反射膜、反射膜
■平版印刷领域
?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价
应用范例：
非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO2)膜厚精度确认
