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半导体行业应用速递(上)|近红外光谱法快速分析蚀刻液中混酸含量

发布:瑞士万通中国有限公司
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与日俱增的电子化水平使我们对半导体的需求日益增加,半导体的工艺流程从覆铜板到 PCB、从光刻到蚀刻,整个生产链都要求高质量、高标准的交付,因此必须通过优化生产过程来提高生产效率。

近红外光谱作为一种行之有效的快速解决方案,一分钟可同时分析多个指标,省时省力还省钱,是传统分析方法的理想替代方法,非常适合半导体行业的多种应用场景。


近红外光谱法快速分析蚀刻液中混酸含量

蚀刻液的配方组成对于蚀刻效果来说十分重要。酸性蚀刻使用的蚀刻液通常由多种高纯酸混合而成(如,硫酸、磷酸、硝酸、氢氟酸、醋酸等),为了达到所需的蚀刻效果,必须严格控制蚀刻液中各种酸的含量。


实验样品

某铜蚀刻液——由 H3PO4、H2SO4、HNO和HF 四种高纯酸混合而成。

实验仪器

DS2500 近红外光谱液体分析仪

仪器 

 特点 

◆ 智能配件

仪器可根据操作程序配置检查是否插入了正确的适配器。

◆ 自动开始功能 & 识别功能并行

仪器可选择在盖子关闭后自动开始测量。

◆ 可以快速加热到80℃,并快速冷却

这一点对于测量不同温度下的样品十分有利。

◆ 支持流通池

仪器支持样品处理器自动操作的流通池,可实现无人值守情况下的自动分析。

近红外分析模型

使用一批样品分别建立 H3PO4、H2SO4、HNO和 HF 含量的定量分析模型。

H3PO模型

H2SO模型

HNO模型

HF 模型



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盲样验证

使用上述近红外分析模型测量8个盲样, 每个盲样测量两遍,所得结果与参考值十分接近,且重复性很好。

More

实验结论

在实际工业生产过程,上述四项指标的常规分析操作十分繁琐,无法满足快速检测的要求。

而近红外光谱法分析该四项指标仅需一分钟,且无需使用任何化学试剂,也无需对样品进行前处理,可以节省大量的人工和成本,是一种绿色环保的高效分析方法。

2023-09-15
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