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国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程

于倒置，倾斜，投影，和长焦距的仪器：使用浸油型号为NVH或OVH; 能更大的覆盖玻璃和客观之间的间隙，或幻灯片和冷凝器之间，更理想的高粘度变得。非常高的粘度型号为NVH（21,000cSt）

arrick等离子体清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能：Harrick等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。Ha

于 倒置，倾斜，投影，和长焦距的仪器：使用浸油型号为NVH或OVH; 能更大的覆盖玻璃和客观之间的间隙，或幻灯片和冷凝器之间，更理想的高粘度变得。非常高的粘度型号为NVH（21,0

arrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick

光显微镜：极低的荧光是由浸油LDF型和HF型来实现。 FF型几乎是无荧光，虽然不是ISO标准。HF型的荧光性比LDF型略多，但不含卤素。 对于大多数非重要荧光显微镜的应用，A型和B

、Tergeo系列等离子清洗机应用等离子清洗机清除样品表面的污染物，去除光阻胶：产生表面活性功能组；清洗提高材料表面亲水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；表面活化：渲染表面的亲水性或疏水

光显微镜：极低的荧光是由浸油LDF型和HF型来实现。 FF型几乎是无荧光，虽然不是ISO标准。HF型的荧光性比LDF型略多，但不含卤素。 对于大多数非重要荧光显微镜的应用，A型和B型浸油有足够低的荧光

、Tergeo系列等离子清洗机应用等离子清洗机清除样品表面的污染物，去除光阻胶：产生表面活性功能组；清洗提高材料表面亲水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；表面活化：渲染表面的亲水性或疏水

光显微镜：极低的荧光是由浸油LDF型和HF型来实现。 FF型几乎是无荧光，虽然不是ISO标准。HF型的荧光性比LDF型略多，但不含卤素。 对于大多数非重要荧光显微镜的应用，A型和B

arrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick

动血液学系统：使用300型，自动血液系统学依赖于浸油的准确，精确控制的物理和光学特性成功成像和机械加工。300型的设计和制造，以满足该设备的严格要求，其中包括它的一致性，专业的粘度和严格控制。​300

胶机(英文名：Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍：匀胶机(英文名：Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称：匀胶台、匀胶机、旋涂仪

于普通光学显微镜的浸镜油 ：浸镜油A型和B几乎可以互换，彼此互溶的中级粘度。 与其他类型相比，生产数量较多，并且A型和B是zui经济的。在他们之间做出选择的决定因素是您的特定应用的

nbsp;匀胶机(英文名：Spin Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 详细介绍：匀胶机(英文名：Spin Coater& Spin Processor) 行业俗称：匀胶台、匀

于普通光学显微镜的浸镜油 ：浸镜油A型和B几乎可以互换，彼此互溶的中级粘度。 与其他类型相比，生产数量较多，并且A型和B是zui经济的。在他们之间做出选择的决定因素是您的特定应用的zui佳粘度。A型（