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涉仪是利用干涉原理测量光程之差从而测定有关物理量的光学仪器。两束相干光间光程差的任何变化会非常灵敏地导致干涉条纹的移动，而某一束相干光的光程变化是由它所通过的几何路程或介质折射率的变化引起，所以通过干

SD-100 数字针筒点胶机可通过针筒准确点胶各种粘度的材料。操作人员能通过数字计时器控制和可调压力规格快速简单地为系统设置所需的涂敷量。这种点胶系统非常适合用作操作员工作站，也可通过连接外部信号到系...

1. 固化强度高，可达40 W / cm 2 ：快速固化各种材料。 2. LED发光器可提供365nm、385nm或405nm波长： 可兼容各种紫外和可见光固化材料；波长灵活性允许粘合剂和固化系统的...

匀胶机产品特点: 1、稳定的转速和快速的启动，可保证胶厚度的一致性和均匀性； 2、转速在12000转/分范围内非常稳定，美国国家标准技术研究院（NIST）认证过； 3、采用PLC控制，速度...

胶显影机(英文名：Developing) 产地：美国一、产品概述：    650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般

、 系统概述1.1 智能嵌锁，系统盖板具有智能嵌锁装置，确保操作安全；1.2 防腐装置；★1.3设有保护气体装置：旋涂过程中对旋转马达进行气流保护；1.4 通信接口，蓝牙连接2、处理腔体2.1 处理腔

牌：恩科优（N&Q）产地：美国一、产品简介：MYCRO原装进口美国恩科优N&Q系列光刻机（Mask Aligner)，是全球领xian的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，全球售出1000多套设备

国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程

arrick等离子体清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能：Harrick等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。Ha

、Tergeo系列等离子清洗机应用等离子清洗机清除样品表面的污染物，去除光阻胶：产生表面活性功能组；清洗提高材料表面亲水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；表面活化：渲染表面的亲水性或疏水

arrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick

、产品概述：    匀胶机WS-650Mz-23NPPB适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。美国Laurell匀胶机具有稳定的转速和快速的启动