正阳/SUNRISE

6～12寸微波单片去胶机

单臂式机械手输送，连续可靠运行 人机界面操作，微电脑程序控制 设赶油及油水分离装置、提高清洁度

采用PLC自动控制，设有手动、自动两套操作系统，能根据实际情况更改清洗参数。 各槽均可选配储液槽，配有循环过滤系统，加热自动温控系统、液位保护自动补液系统。 整机设备为全封闭结构，可采用全不锈钢外...

1、 智能控温系统，漏电防护装置系统、安全省电。 2、 低噪音，故障率低，操作人性化。 3、 机器所有配件采用名优厂家产品。 4、 机器可以在各类恶劣环境下工作。 5、 采用名...

1性能：提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的高性能、高可靠度和长寿命。 2用途：用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或侵入的污染物 3运用超声...

真空超声波清洗、干燥、对盲孔、薄板部品清洗品质佳 自动化清洗、清洗过程由PLC程序控制，智能、高效 自动蒸馏再生系统、节能排放、循环经济 气体浓度检测+自动灭火系统，安全性高 智能化、远程监控...

1）操作安全：系统应具有抗腐蚀性、毒性、耐压、防燃防爆等功能，保证操作者安全； 2）兼容性：与化学品接触部份应完全与输送化学品兼容，对化学品零污染； 3）流量及扬程：满足供液过程中的流量和...

配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗（可选）、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面积小，湿进干出，适用于各类CMP后晶圆的清洗。

表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在最少量的颗粒，同时利用程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布

1.自主研发的智能精准的传输控制系统 2. 全自动化学品集中供液系统（CDS） 3. 可选配多组合的晶圆清洗工艺 4.单片处理时间短，节约成本，良品率高，有效避免边缘再附着 5.立体层叠式结构...

1.全自动清洗模式，避免了操作人员接触化学液体； 2.经过多段清洗流程，能高效用于PCB清洗和PCBA 的助焊剂残留清洗； 3.独特的整套清洗系统设计，从多方向进行清洗，彻底消除了清洗死角，充分保...

工作效率高，工作节奏紧凑快捷，且所生产出的产品工艺质量稳定。 ​封闭罩能够节约用水，节省药液，达到节能减排环保清洁工厂之要求。 降低废酸、废水、废渣的产生量，实现达标排放。

1.一体化、模块化结构，占地小，容量大，清洗产能高； 2.行业唯一单向超声输出，空化效率高，清洗洁净度高; 3.独特的分离式自动搬运机械手，高效稳定、便于维护保养； 4.配套均匀的气压鼓泡系统，...

高精度、快响应、操控性、兼容性好、功能完善、专业。

1.频次高，可精细化清洗，多应用于先进封装和晶圆极封装； 2.等离子腔内360度运动，清洗彻底； 3.等离子密度大，同等时间内清洗效果好。 4.腔内无电极 5.可反复清洗，不伤产品。

1.一体化、模块化结构，占地小，容量大，清洗产能高； 2.行业唯一单向超声输出，空化效率高，清洗洁净度高； 3.独特的分离式自动搬运机械手，高效稳定、便于维护保养; 4.可选装油水分离系统磁性分...