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Nanoscribe IP系列光刻胶

品牌：nanoscribe
型号： IP
产地：德国
供应商报价：面议

纳糯三维科技（上海）有限公司更新时间：2024-01-12 16:01:17

企业性质生产商

入驻年限第6年

营业执照已审核

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联系方式：韩良智139-17994506

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详细介绍

Nanoscribe 光刻胶

Nanoscribe为客户提供自主研发的IP系列负光刻胶。专用于优化双光子光固化过程，以及优异的高精度增材制造中的细节表达性能：

最小特征尺度：160nm （一般情况下）
高速的微纳制造
各种基板的良好附着力
优化的机械稳定性和超高的形状精度
简洁的流程，简便的工艺
无须匀胶，无须曝光后烘干

Nanoscribe的光刻胶专门优化PPGT2 3D打印机和Quantum X无掩模光刻系统的打印过程。

Nanoscribe公司的IP系列光刻胶非常实用。借助IP-Dip，我们可以用IP-S微型喷嘴生产用于复制的模具。我们通过使用Photonic Professional GT打印系统实现了运用其他材料作为水凝胶或硅氧烷。

广泛的打印材料选择

Nanoscribe的微纳加工系统秉承了开放式理念，适用于加工多种不同的材料。市面上大部分现有的紫外波段感光的光刻胶，水凝胶，还有特定纳米颗粒的复合树脂，或客户自主研发的打印材料均可以完美的适用于该系统。

为了满足各应用领域的材料性能需求，一些光刻胶的诸如光学，机械学，电子学和生物学特性等性能经过工程设计，从而更加适合用于光学，光电和生物医学工程等领域。

打印后处理，比如，镀膜处理，原子层沉积，化学气相沉积，或电镀。通过以上的这些手段，本来基于光刻胶的三维微纳米结构可以被加上或者置换为多种其它材料，如陶瓷、金属、玻璃或者其它塑料等材料。

更多材料和工

IP系列光刻胶

光刻胶	特性	可能用于应用领域
新型 IP-PDMS光刻胶	2PP打印的具有柔软度，柔韧性和高弹性的结构	材料工程，生命科学，细胞和组织工程，微流控，微机电系统（MEMS）
全新 IP-n162	n=1.62高折射率材料；在红外范围内低吸收率；非常适合2.5D和3D微纳结构的直接打印和原型制造。	3D折射微纳光学和自由曲面微纳光学元件集成
IP-Visio	符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，无生物毒素，细胞显微镜下低自发荧光的特点。	多细胞支架，组织工程，生物医学设备，生命科学。
IP-Q	高速加工可达到100立方毫米总打印体积。可用于Dip-in激光光刻技术(DiLL)。	生物医学工程，机械零件，高精度手板激光快速成型。
IP-S	符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，无生物毒素的特点。用于加工具备光学质量表面和形状精度的微米和中尺度器件。专为DiLL设计。	力学超材料，微光学，集成光电子，微流道，细胞支架。
IP-Dip	我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证，该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点，具备亚微米特征和高纵横比。专为DiLL设计。	光学超材料，衍射光学元件，微纳机器人。
IP-G	复杂的三维设计，例如，悬垂的结构。亚微米的细节尺度和低收缩率收缩。适合应用于oil immersion模式。	在仿生学、光子学、微型机器人中具有外悬结构的零件。
IP-L	我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证，该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点，具备亚微米特征和低收缩率。专为油浸配置而设计，与DiLL兼容。	表面等离子体光子学、光学超表面和仿生表面。

玻璃印刷

光刻胶	优势	可能用于应用领域
新型 GP-Silica	具有高机械稳定性、热稳性和化学稳定性特点的熔融石英玻璃结构 3D 微纳加工。	微流控、材料工程、生命科学、微机电系统 (MEMS)

可适用第三方光刻胶