蔡司 ZEISS Sigma 场发射扫描电子显微镜

产品简介：

蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的品质成像和和卓 越分析分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完 美的结合在一起。利用Sigma系列直观的4步工作流程，可以提高日常所需的成像和分析效率，在更短的时间内获得更多的数据。，提高测试与生产效率。可选配备多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。颗粒物、纳米结构、薄膜样品等各种不同的应用需求。领先的EDS几何设计实现卓 越的分析性能，无论哪种样品，均可获得精 准且可重复的分析结果。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。可广泛应用于材料科学、生命科学、工业应用等领域。

产品特点：

• 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁

• 广泛全面的应用场景

• 丰富灵活的探测手段获取高分辨的图像

• 智能高效的工作流程

• 先进可靠的分析系统

• 强大完善的扩展平台可扩展拉曼光谱成像

• 独特的Gemini镜筒设计-提升光学性能的同时，降低静电场与磁场对样品的影响

应用领域：

• 材料科学研究，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析涂层薄膜分析，形态表征与成像分析

• 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像冷冻样品高分辨成像

• 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析材料岩石样品分析

• 工业应用，如组件失效分析，工艺过程诊断

• 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）

• 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析钢铁行业，如夹杂物分析

• 刑侦、法医学

• 考古学、文物保护与修复