紫外臭氧清洗机 PL17-110

应用Objects
光清洗改质实验装置UV/O3 cleaning and modifying experiments
尺寸Dimensions： 约350W*350D*380H(mm)
电源Power supply： 220V 50/60Hz
功率Power consumption ：140W
照射面积Irradiation area： 170*170MM
UV 能量Uv intensity： 25-35mW/cm2
灯总功率Total lamp wat.： 110W
灯型号Lamp model 日本SEN 原装进口：SUV110GS-36
灯数量Number of lamps ：1PCS

 

特点: 本装置是为了运用短波长紫外线254NM 和185NM 双波段进行表面处理、干式清洗的效果而设计制作的试验机。所使用的光源为日本原装进口SEN 特殊光源, 110W 合成石英玻璃的面光源。

本机的正面为单开门，试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。
同时我们还有例如200mm 角300mm 角面光源，两面照射，抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。

构成和构造:
光源到试验台之间最大有80mm 距离，因此无论是玻璃/胶片型还是立体物品都可以处理。
照射距离可使用手动升降机调节高度。
在门上设有观察窗，可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。
 

紫外光UV清洗原理

应 用

紫外线UV光清洗技术的应用范围:

1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;

2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂

3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；

4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗

5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；

6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。

7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。  

8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生

9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。

10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。

11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。

12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。

13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。

14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高

15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。

16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。