- 详细介绍
请选择合适的型号
NX-B100多功能整片基板纳米压印系统(热压印)
最大75毫米直径压印面积热压印
加热速度>200℃/分钟制冷速度>60℃/分钟
NX-B200多功能整片基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)
最大75毫米直径压印面积热压印和紫外压印
加热速度>200℃/分钟制冷速度>60℃/分钟
58mW/cm2紫外LED光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制
NX-1000多功能整片基板纳米压印系统(热压印)
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟
NX-2000多功能整片基板纳米压印系统(热压印和紫外压印)
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制
NX-2500
多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选
热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制
带对准功能(亚1微米对准精度)多层次的纳米压印
对准模块<1μm 3σ对准准确率X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
NX-2600
多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统
可选背面对准
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选
热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源;365纳米或395纳米波长可选;全自动化控制
带对准功能(亚1微米对准精度)多层次的纳米压印
对准模块<1μm 3σ对准准确率X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机
标配5”模板,标配4”直径基板?其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源
Lumina200多功能高精度光刻机
4寸基板,5寸掩膜
Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统
Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8”
产品相关关键字:纳米压印光刻机NIL光刻机软紫外纳米压印热压印步进闪光压印