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 KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从 nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精

一、 简介KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用

Park NX15具备多个特殊功能，是共享实验室处理各种样品，研究员进行多变量实验，失效分析时研究晶片等的不二选择，合理的价格搭配强健的性能设置，Park NX15能够实现多样品一次性自动成像，实现

Park NX10为您带来高精纳米级分辨率的数据，值得您信赖、使用和拥有。无论是从样品设定还是到全扫描成像、测量与分析，Park NX10都可以在保证您专注于创新研究工作的同时提供高精度的数据

CSI是一家法国科学设备制造商，拥有专业的AFM设计概念，以及为现有的AFM提供设计选项。它避免了激光对准需要预先定位针尖的系统，针尖/样品的顶部和侧视图，结合垂直的马达控制系统，使预先趋近更加容易

非接触式优点就是测量装置探测部分不与被测表面的直接接触，保护了测量装置，同时避免了与测量装置直接接触引入的测量误差。 Zeta-20三维光学轮廓仪集成了六种光学计量技术。 ZDot 测量模式同时采集...

传感器具有动态力控制，良好的线性，和精确的垂直分辨率等特性友好的用户界面和自动化测量可以适配大学、研发、生产等不同应用场景。KLA是半导体在线检测设备市场较大的供应商，在半导体、数据存储、 MEMS

Alpha-Step高精度台阶仪/轮廓仪D-600 包括一个 200 毫米电动载物台，具有 150 x 178 毫米 X-Y 运动范围。 新的测序软件具有手动纠偏对齐和对样本多达 1000

iNano高精度台式纳米压痕仪是一种紧凑，用户友好的纳米机械测量系统，设计用于硬涂层，薄膜和少量材料。该系统旨在进行准确，可重复的纳米级机械测试，包括压痕，硬度，划痕和通用纳米级测试。iNano具有很...

Profilm 3D是一款兼具垂直扫描干涉 (VSI)和高精确度相移干涉 (PSI) 技术的经济三维光学轮廓仪，其可以用于多种用途的高精度表面测量。 我司有此机器可测样。

Filmetrics R50 是KLA电阻测试家族的最新产品。R50方阻测试仪是KLA超45年电阻测量技术地位之作。电阻测量和监控对于任何使用导电薄膜的行业都至关重要，从半导体制造到可穿戴技术所需的柔...

Diatome 钻石刀Diatome公司自1970年开始，一直在钻石刀的生产制造和开发方面不断地发展，在该领域处于世界领xian的水平。成为超薄切片机客户钻石刀，在国内外享有盛誉。Di