XRD检测-纳米多层薄膜物相随深度变化

引言

掠入射X射线衍射（GID）是表征薄膜材料的有效手段。通过控制不同的入射角度，进而控制X射线在薄膜中的穿透深度，可以确定薄膜材料的结构随深度变化的信息。

实例 45nm NiO/355nm SnO2/玻璃 薄膜的GID测试

左图：不同入射角时，薄膜的GID图谱。右图：薄膜结构示意图及掠入射角度。

低角度入射时，先看到薄膜 上层的立方NiO。当入射角omega=0.5°时，有四方SnO2的衍射峰出现，入射角进一步增见，则SnO2的信号增加明显，说明X射线照射到SnO2的信号更多。同时，两物相衍射峰的相对强度与卡片对比（左图）可以知道，NiO和SnO2均有一定程度的取向。其中SnO2的强度差别更大，说明取向更强。