表面分析

ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计，是大 多数半导体开发和支持实验室的常用工具。

PHI 硬X射线光电子能谱仪，下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进...

PHI公司的PHI 710扫描俄歇纳米探针是一台设计独特的高性能的俄歇电子能谱（AES）仪器。该设备能分析纳米级特征区域,超薄薄膜和多层结构表界面的元素态和化学态信息。

PHI nano TOF3+，先进的多功能TOF-SIMS具有更强大的微区分析能力，更加出色的分析精度

PHI Genesis 500是新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速准确深度剖析，为电...

虽然所有离子束都会溅射或蚀刻，但我们的一些系统的表面是专为高效和快速溅射而设计的。溅射光束有三个特点：高电流、大光斑尺寸和宽视场。这些特性的结合意味着它们可以在大面积上尽快输送大剂量的离子，以优化蚀刻...

lonoptika公司的C60-20是一种高性能的20kV离子束系统，用于高化学复杂性样品的SIMS分析。C60-20是一种功能强大，成本效益高的分析离子束系统，可以较大限度地利用SIMS分析。

C60-40是目前性能较高的C60光束，具有300纳米的光斑尺寸和高达1毫安的束流。从生物医学应用到聚合物科学和冶金，C60-40都可以做到这一点。得益于与其他C60离子束相同的均匀溅射，但由于更高的...

GCIB10S是一种高性能10千伏气体团簇离子束，用于快速、低损伤溅射和更高质量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括实时集群大小测量和内置样本电流成像系统，以帮助您充分利用实验。

GCIB 40是一种40 kV气体团簇离子束，产生团簇离子聚焦束，用于需要对分子离子敏感的分析应用。GCIB在较大程度地减少碎片和从表面去除完整分子方面具有单独的的能力。在40千伏电压下工作的GCIB...

GCIB 70是一种70 kV高性能气体团簇离子束，可产生高度聚焦的团簇离子束，用于高分辨率成像SIM，具有没有可以比较的的灵敏度。在SIMS中使用气体团簇束的好处现在已得到充分证实；高质量团簇在溅射...

1.使用CMA通州分析器，同时实现高灵敏度和高传输率。即使在低电流高空间分辨率情况下，都可轻松的进行分析。 2.以20kV加速电压和电流1nA进行俄歇分析，AES空间分辨率可达≤8nm 3.在保有...

TOF-SIMS 中，根据分子结构反映的质谱，能更详细的对 化学结构进行分析。

一束高能初级离子轰击样品表面激发出原子和分子碎片 只一小部分激发出的粒子以离子的状态离开表面，被质量分析器探测出来 对于无机材料, 原子离子百分含量> 10%

度和优异的成像和质谱性能。J105将创新设计和优异科学与各方面的功能列表相结合，重新定义了ToF SIMS的功能。

PHI GENESIS X射线光电子能谱仪 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。 操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和 SXI ...