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倒易空间中劳厄方程与反射球间的关系如何?为什么

陈奕迅呐i 2017-07-26 09:49:29 515  浏览
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  • ltc818 2017-07-27 00:00:00
    衍射的实质:是光的干涉,是无穷多次波的相干叠加. 衍射发生的原因:当光线遇到障碍物时,它将偏离直线传播,产生衍射现象. 发生衍射的条件:衍射的基本条件是障碍物夹缝宽接近于波长. 晶体衍射的客观条件:晶体X射线衍射 X-ray diffrection by crystals X射线在晶体中发生的衍射现象。晶体具有点阵结构,点阵结构的周期(即晶胞边长,b,c)与X射线的波长属于同一数量级,X射线衍射现象是一种基于波叠加原理的干涉现象,干涉的结果随不同而有所不同(Δ为波程差;λ为波长)。为整数的方向,波的振幅得到Z大程度的加强,称为衍射,对应的方 向为衍射方向 ,而为半整数的方向,波的振幅得到Z大程度的抵消。因此,X射线通过晶体之后,在某些方向(衍射方向)X射线的强度增强,而另一些方向X射线强度却减弱甚至消失 ,如果在晶体的背后放置一张感光底片,将会得到X射线的衍射图形。 利用X射线衍射原理制造的X射线衍射仪,是测定晶体结构的Z主要仪器。根据衍射的方向可以测定晶格参数或晶胞的大小和形状。根据衍射线强度分布能够测定原子在晶胞中的坐标,因此X射线衍射法也是测定分子空间构型的主要方法。 产生晶体X射线衍射的条件可用劳厄方程来描述,劳厄方程的标量表达式如下: (cos-cos0)=hλ b(cosβ-cosβ0)=kλ c(cosγ-cosγ0)=lλ式中、b、c为晶胞边长;0、β0、γ0是入射线与晶胞基向量的夹角;、β、γ是衍射线与晶胞基向量的夹角;h、k、l是三个正整数,称为衍射指数;λ是X射线的波长。 描述X射线衍射条件,还可以用布拉格方程: 2dsinθ=nλ式中d为相邻两个晶面之间的距离;θ为入射线或反射线与晶面的交角;λ为X射线波长;n为正整数。布拉格方程与劳厄方程虽然表达方式不同,但其实质是相同的。 当 X射线的波长与入射线方向以及晶体方位确定以后,劳厄方程中的λ、、b、c、0、β0、γ0 都已确定,只有、β、γ是变量,它们必须满足劳厄方程,但是,、β、γ3个变量不是独立的,例如在直角坐标中应满足: cos2+cos2β+cos2γ=1这就是说,3个变量、β、γ应同时满足4个方程,这在一般条件下是不可能的,因而得不到衍射图。为了解决这个问题,必须再增加一个变数,有两种办法可供选择:①晶体不动(0、β0、γ0固定),改变波长λ,即采用白色X射线,这种方法称为劳厄法;②波长不变,即用单色X射线 ,让晶体绕某晶轴转动,即改变0、β0、γ0 。这样可在某些特定的晶体方位得到衍射图,这种方法叫做转动晶体法。以上两种方法都是对单晶体而言的。如果晶体是多晶,每个小单晶体在空间的取向是随机的,劳厄方程总可以得到满足,这就是粉末法的基础。

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Blog-Wenzel方程 - 描述粗糙度与润湿性的关系

当需要表征表面的润湿性和附着性时,表面的化学性质和形貌性质在许多不同的应用和工艺中都是重要的参数。润湿性可以通过测量基材与给定液体间的接触角来研究。杨氏方程便描述了固、液、气三相间的平衡:

                                             

其中γsv、γsl、γlv为界面张力,θγ为杨氏接触角。杨氏方程假定材料表面化学均一,形貌光滑。然而在真实的表面上述假定通常是不存在的,在真实的表面上通常并不是一个平衡状态下的接触角值,而是在前进角和后退角之间显示一个接触角范围。

在理想表面上使用杨氏方程,测量的接触角为杨氏接触角(见上面图片)。在真实的表面上,实际接触角是液体-流体界面的切线与实际固体局部表面之间的夹角(见下面图片)。然而,测量的接触角是在宏观上看到的,液体-流体界面的切线和代表表观固体表面的线之间的夹角。实际接触角值和表面接触角值会有很大的差异。在理论上计算固体表面自由能时,应采用实际接触角。

Wenzel方程描述了表面粗糙度与浸润性之间的关系

粗糙度和润湿性的关系是1936年Wenzel提出的,增加表面粗糙度可提高表现化学性质引起的润湿性。例如,表面在化学上是疏水的,当增加表面粗糙度时,将变得更疏水。Wenzel方程的具体表述如下:

θm为测量所得接触角,θγ为杨氏接触角,r为粗糙度比率。粗糙度比率的定义为实际和投影实体表面积的比值(光滑表面r=1,粗糙表面r>1)。需要注意的是,Wenzel方程是基于液体完全穿透粗糙表面的假设。Wenzel是一种近似值,对于粗糙表面来讲液滴越大测试结果越接近真实值。由此可知,如果液滴比粗糙度尺度大两到三个数量级,则适用Wenzel方程。


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