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真空镀膜机镀制薄膜的不均匀的问题如何处理(下)

委鬼*斤山风 2013-11-01 18:38:46 478  浏览
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参与评论

全部评论(1条)

  • 我是某作者 2013-11-02 00:00:00
    既然上面讲到膜层的不均匀性,那么接下来我们继续让多弧离子镀膜机厂家继续讲解下剩下的几种因素。溅控溅射镀膜机中的磁场是正交运作的,但你要把磁场强度做到百分之一百均匀是不可能的,一般磁场强的地方,成膜厚度就大,相反就小,所以会造成膜层厚度的不一致,不过在生产过程中,由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的,为什么呢?对此,经常操作真空蒸发镀膜机的技术人员解释到,原来磁场强弱虽然不好控制,但同时工件也在同时运转,而且是靶材原子多次沉积才 会结束镀膜工序,在一段时间内虽然某些部位厚,某些部位薄,但另一个时间内,磁场强的作用下在原来薄的部位沉积上厚的,在厚的部位沉积上薄的,如此多次,整个膜层Z终成膜后,均匀性还是比较不错的。 通过上述的讲解之后,我们让车灯镀膜机的工作人员来讲讲氩气的镀膜效果。氩气的送气均匀性也会对膜层的均匀性产生影响,原理其实和真空度差不多,由于氩气的进入,真空室内压强会产生变化,均匀的压强大小可以控制成膜厚度的均匀性。

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