SDI 浸渍提拉镀膜仪的特点

        浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍，然后将基材从溶液中垂直、低速提拉起来，形成一层薄膜。

        根据浸渍基材(镀膜应用对象)和镀膜溶液的种类，SDI研发了各种不同型号的设备，这些设备具有不同的浸渍镀膜速度，浸渍行程等。根据型号，SDI浸渍提拉镀膜仪具有如下特点：

1. 实现了超低速度(1nm/s)规格的行业Z高标准：ND-0407-S5

2. 种类繁多：超低速ND系列(1nm/s)，低速MD系列 (1μm/s)，多用途DT系列 (0.1mm/s)，便携式和其他各种类型等。

3. 振动小，提拉速度稳定：可形成均匀的薄膜。

4. 可在任何可选点更改速度和设置停止周期/时间：具有监控当前位置和当前速度等的功能。

5. 程序具有重复功能：在某种程度上，可以多回合反复地镀膜。

6. 操作和保养简单：易于日常维护。

7. 积极应对各种定制：可以根据客户的要求，设计和制造所需的夹具、镀膜液罐、镀膜液循环系统等来满足客户的需求。

8. 适用于触控面板或PC控制：适用于任何具有良好操作性能的触摸面板（PLC控制）和成本考虑的PC（只适用于DT系列）控制

9. 变速时的停止时间是0秒：对于SDI的原始软件，连续运行(停止时间0秒)是可行的

10. 流畅的速度变化得以实现：SDI使用了可线性改变镀膜速度的新软件，可以实现镀膜速度的流畅变化。

浸渍提拉法是将基材垂直浸入镀膜溶液中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。

浸渍提拉法的具体工艺流程如下：

1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。

2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。

3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；

4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。

干燥及高温热处理前原料膜的厚度*1

h=a (ηu / dg)^1/2

处理后的膜厚[x]应与处理前原料膜的厚度[h]成正比，因此镀膜溶液的密度[d](每单位面积的质量)，粘度[η]以及提拉速度[u]被认为是对成膜有影响的参数。[a]是系数，[g]是重力加速度。

因此，可以通过提拉速度来控制薄膜厚度：提拉速度越慢，薄膜越薄；提拉速度越快，薄膜越厚。

* 1参考资料来源：Latest Transparence Conductive Film Trend (2005)