离子镀膜过程的特点

        浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍，然后将基材从溶液中垂直、低速提拉起来，形成一层薄膜。

        根据浸渍基材(镀膜应用对象)和镀膜溶液的种类，SDI研发了各种不同型号的设备，这些设备具有不同的浸渍镀膜速度，浸渍行程等。根据型号，SDI浸渍提拉镀膜仪具有如下特点：

1. 实现了超低速度(1nm/s)规格的行业Z高标准：ND-0407-S5

2. 种类繁多：超低速ND系列(1nm/s)，低速MD系列 (1μm/s)，多用途DT系列 (0.1mm/s)，便携式和其他各种类型等。

3. 振动小，提拉速度稳定：可形成均匀的薄膜。

4. 可在任何可选点更改速度和设置停止周期/时间：具有监控当前位置和当前速度等的功能。

5. 程序具有重复功能：在某种程度上，可以多回合反复地镀膜。

6. 操作和保养简单：易于日常维护。

7. 积极应对各种定制：可以根据客户的要求，设计和制造所需的夹具、镀膜液罐、镀膜液循环系统等来满足客户的需求。

8. 适用于触控面板或PC控制：适用于任何具有良好操作性能的触摸面板（PLC控制）和成本考虑的PC（只适用于DT系列）控制

9. 变速时的停止时间是0秒：对于SDI的原始软件，连续运行(停止时间0秒)是可行的

10. 流畅的速度变化得以实现：SDI使用了可线性改变镀膜速度的新软件，可以实现镀膜速度的流畅变化。