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- 13834748909 2017-09-23 00:00:00
- 一、离子束溅射的优点 1、溅射镀膜是依靠动量交换作用使固体材料的原子、分子进入气相，溅射出的平均能量10eV，高于真空蒸发粒子的100倍左右，沉积在基体表面上之后，尚有足够的动能在基体表面上迁移，因而薄膜质量较好，与基体结合牢固。
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伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜
为了获取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射沉积技术镀制 Ta2O5 薄膜进行研究.
其系统工作示意图如下：
该研究所的离子束溅射镀膜组成系统主要由溅射室、双离子源、溅射靶、基片台等部分组成.
其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗.
用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380, 其参数如下:
伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数：
射频离子源型号
RFICP 380
Discharge 阳极
射频 RFICP
离子束流
>1500 mA
离子动能
100-1200 V
栅极直径
30 cm Φ
离子束
聚焦
流量
15-50 sccm
通气
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力
< 0.5m Torr
长度
39 cm
直径
59 cm
中和器
LFN 2000
理由：
聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染
用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
离子源型号
霍尔离子源
eH3000
eH3000LO
eH3000MOCathode/Neutralizer
HC
电压
50-250V
50-300V
50-250V电流
20A
10A
15A散射角度
>45
可充其他
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
气体流量
5-100sccm
高度
6.0“
直径
9.7“
水冷
可选
其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5Pa, 采用伯东分子泵组 Hicube 80 Pro, 其技术参数如下：
进气法兰
氮气抽速
N2,l/s极限真空 hpa
前级泵
型号
前级泵抽速
m³/h前级真空
安全阀DN 40 ISO-KF
35
< 1X10-7
Pascal 2021
18
AVC 025 MA
运行结果：
伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术可以制备不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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沪公网安备 31011502008050号
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