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真空蒸镀与溅射镀膜优缺点

幸福爱の浮云 2011-08-01 13:02:04 1272  浏览
  • 蒸镀用的是环形电子枪加热,溅射用的是平面磁控溅射。麻烦说一下这两种镀膜方式各自优缺点

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全部评论(2条)

  • xigubu 2011-08-02 00:00:00
    蒸镀 蒸镀镀膜就是在真空中通过电流加热、电子束轰击加热和镭射加热等方法,使薄膜材料蒸镀成为原子或分子,它们随即以较大的自由程作直线运动,碰撞基片

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  • sfhuhhgf 2017-11-24 15:59:07
    溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级,所以膜层的含气量要比蒸镀高. 蒸镀不适用于高溶点材料,如钼,钨,~~等.因为溶点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多. 溅射不适用于低硬度材料,如非金属材料. 溅射不适用于非导电材料. 蒸镀不能控制厚度,而溅射可以用时间控制厚度. 蒸镀不适应大规模的生产. 蒸镀的电子动能比溅射小很多,虽然含气量少,但是膜层易脱落, 溅射的膜均匀,蒸镀的膜ZX点厚,四周薄. 在国内蒸镀工艺比溅射工艺成熟. 当然还有很多,一会也说不完.就看你主要想知道什么.

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