LED透镜发光角度，急，高分求解！
-
LED投光灯，我用的透镜角度是90度的，灯具做成以后，灯具距墙面2米，光斑只有2米的直径，请问这是为什么，因为按着数据往里套的话，灯具发光点与墙面之间距离作为三角形的一条边，那么... LED投光灯，我用的透镜角度是90度的，灯具做成以后，灯具距墙面2米，光斑只有2米的直径，请问这是为什么，因为按着数据往里套的话，灯具发光点与墙面之间距离作为三角形的一条边，那么光斑的半径1米也可以作为三角形的另一条边，问题是现在短边是长边的一半，那么就说明这个角度是30度，这是灯具整体发光角度的一半，那么乘以2以后也就是60度，我就奇怪，为什么90度的透镜出来的效果却是60度的角度呢？而且光斑直径2米，我都已经算到快不亮的区域了，Z亮的区域也就1米多，因为我现在就算直径是2米 我还没办法给客户交代过去：90度透镜出来的是60度（其实客户拍的图的效果看 比较亮的部分直径也就是1米，他算的角度更狠 直接说我用30度透镜 要我赔偿呢） 希望高手能仔细的帮我解决这个问题，我可以多给你分，我换几个号给分，谢谢了，真的很急，谢谢 谢谢 展开
全部评论(2条)
-
- 痉裙厍凸傻 2018-02-23 00:00:00
- 还有就是你那个led灯珠的发光角度是不是特别小？
-
赞(16)
回复(0)
-
- aomeng01 2017-11-25 00:00:00
- 用90°的透镜，如果灯具对着墙照射，距离墙壁多少米，光斑的直径就是多少米，所以没错。 解释如下： 当灯具垂直地照射墙面，从灯具画一条直线到墙面，这条平分灯具的照射角。 那么，直线与灯具照射Z大角度斜线的夹角为45°，与墙面光斑半径形成一个等腰直角三角形，而等腰就是指光斑的半径和灯具与墙的距离。 所以，用90°的透镜，光斑的半径与灯具与墙的距离相等。 如果用120°的透镜，则光斑的半径等于灯具与墙距离的1.732倍。 顺便问楼主一个问题：你希望达到的是个什么效果？如果灯具距离墙壁是1米的话，光斑的半径需要是多少米？
-
赞(11)回复(0)
热门问答
- LED透镜发光角度，急，高分求解！
- LED投光灯，我用的透镜角度是90度的，灯具做成以后，灯具距墙面2米，光斑只有2米的直径，请问这是为什么，因为按着数据往里套的话，灯具发光点与墙面之间距离作为三角形的一条边，那么... LED投光灯，我用的透镜角度是90度的，灯具做成以后，灯具距墙面2米，光斑只有2米的直径，请问这是为什么，因为按着数据往里套的话，灯具发光点与墙面之间距离作为三角形的一条边，那么光斑的半径1米也可以作为三角形的另一条边，问题是现在短边是长边的一半，那么就说明这个角度是30度，这是灯具整体发光角度的一半，那么乘以2以后也就是60度，我就奇怪，为什么90度的透镜出来的效果却是60度的角度呢？而且光斑直径2米，我都已经算到快不亮的区域了，Z亮的区域也就1米多，因为我现在就算直径是2米 我还没办法给客户交代过去：90度透镜出来的是60度（其实客户拍的图的效果看 比较亮的部分直径也就是1米，他算的角度更狠 直接说我用30度透镜 要我赔偿呢） 希望高手能仔细的帮我解决这个问题，我可以多给你分，我换几个号给分，谢谢了，真的很急，谢谢 谢谢 展开
2017-11-24 00:11:24
600
2
- led洗墙灯的透镜发光角度该如何选择
2018-07-24 20:42:10
659
1
- LED射灯透镜角度是什么意思
2012-03-15 11:55:44
535
6
- LED面光源发光角度一般是多大
2018-12-03 17:52:24
282
0
- LED成品灯的发光角度是怎样计算的
2011-07-14 14:00:20
471
3
- 超声探头接线图，高分求解
- 超声探头就是这种样式的，下面有很多线，我想知道这个接线图到底是怎么回事，谁能给我一个接线示意图，必高分重谢
2018-11-14 05:42:59
294
0
- 英译汉－－给高分，急！！
- Abstract The hollow cathode will be presented as a plasma source for reactive evaporation processes. The hollow cathode generates an arc discharge plasma. This contains a high portion of directed electrons with an enhanced mean energy， the... Abstract The hollow cathode will be presented as a plasma source for reactive evaporation processes. The hollow cathode generates an arc discharge plasma. This contains a high portion of directed electrons with an enhanced mean energy， the so called low voltage electron beam (LVEB). The mean energy of the LVEB， in the range of 11 eV， results in a very effective ionization of the gas and vapor particles. Consequently， very high plasma densities can be achieved， which corresponds to high particle densities in high-rate deposition processes. Furthermore， a high self bias potential of about 16 V is obtained on insulating substrates. For the coating of heat-sensitive substrates with high deposition rates a process with a low ratio between thermal load and deposition rate is necessary. The heat flux on plastic substrates 2 has been measured at the reactive Al evaporation process. The overall thermal load of about 4 W/cm related to a deposition rate of 100nm/ s is low in comparison to other processes. This makes the hollow cathode a favorable tool for the plasma-activated high-rate deposition. The oxide layers deposited by this process show dense and glassy structures even at comparatively low condensation 2 temperatures. This is caused by the high ion current densities in the order of 30 mA/ cm . The low ion energy determined by the self bias potential results in relatively low compressive stress below 100 MPa. The low thermal load and the moderate intrinsic stress of the layers makes the hollow cathode plasma-activated deposition (HAD) process the method of choice for the deposition of oxides as abrasion resistant layers on plastic films and sheets. Ó 1998 Elsevier Science S.A. All rights reserved. 1. Introduction Table 1 shows typical layer materials that have been deposited by the PMS–DMS process and the corre-In recent years， the importance of coating plastic sponding dynamic deposition rates. The dynamic deposisurfaces with oxides and nitrides has increased. Typical tion rate is defined for moving substrates as the product of applications are solar control and low-emissivity multilayer the layer thickness and the substrate transportation speed. systems for window panes and window films， antiabrasion The HAD (hollow cathode-activated deposition) process layers on plastic films， plastic sheets and plastic parts as is the combination of a high-rate evaporation process and a well as barrier layers for packaging films. high-density plasma activation using the hollow cathode 展开
2007-04-18 19:12:30
473
1
参与评论
登录后参与评论