油脂双层体的微观结构测量

本文由 北京创新思成科技有限公司 整理汇编

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  氢氧化钾蚀刻（KOH）是制造微型器件的一个重要工艺，用于从硅片上去除材料。选择性地蚀刻硅片的某些部分，用一层二氧化硅或掩膜来保护剩下的部分。然而，残留物的存在成为这种技术的一个缺点，因为它会对器件的制造过程产生负面影响。在这篇博客中，我们提出了一种利用蚀刻残留物的方法，将其作为后续蚀刻的掩膜，以制造两层微结构。我们还提供了如何有效地利用扫描电镜SEM对这些微结构进行成像的例子。KOH化学硅蚀刻技术蚀刻是微加工中一个非常重要和关键的过程，在此过程中，材料通过蚀刻剂在硅片表面进行化学去除。蚀刻有两种:湿蚀刻，蚀刻剂是液体，和干蚀刻，蚀刻剂是等离子体。干蚀刻是各向异性的，因此在蚀刻材料中形成垂直侧壁，如图1a所示。在另一方面，湿蚀刻剂通常是各向同性，这意味着蚀刻在各个方向都是均匀的，产生圆壁和削弱效果，如图1b所示。KOH是一种液相蚀刻剂，在晶体平面上是各向异性的。因此，它对硅片的晶体取向很敏感，产生梯形截面腔，如图1c所示。KOH蚀刻的主要缺点之一是残留物的沉积，这是由蚀刻剂和被移出材料之间的相互作用所造成的:是这项技术Z薄弱的一点。图1:生成的基体横截面示意图，(a)wan美各向异性的侵蚀，(b)一个完全各向同性的侵蚀，(c)一个湿蚀刻的各向异性腐蚀剂[详细]

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• 结构体沉降（挠度）传感器HFTND-4

  结构体沉降(挠度)传感器型号：HFTND-4一、测量原理：系统原理图沉降测量仪采用远距离非接触光电转换法测量沉降。具体做法是在被测点用红漆标记，主机安装在固定物体上（可以是桥墩）上，通过主机中光学成像系统测量（监测）测量点的位移变化情况。系统可以设置采样间隔，可以无线或有线传输传输数据，适合无人值守。该系统安装在固定点上，系统小巧，只有1.5kg。无需在测量点上加装任何设备，只需用红漆标记测量点，不会给行车造成任何影响。使用本产品进行结构体挠度检测，降低了对操作者的技能要求，操作非常简便，省时GX，仅需一人操作即可独立完成检测工作二、主要参数：1.测量方式：光电图像式2.测量范围-35mm-35mm（可定制）3.分辨率：0.01mm4.精度：0.1mm5.数据传输方式：R485或无线传输6、防护等级IP657、工作电压8V-12V8、工作温度-25℃-70℃9、仪器体积小，重量1.5kg，结构简单，方便安装。[详细]

  2018-09-24 10:01

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  2016-01-29 00:00

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• 机械合金化条件对储氢材料Mg63Ni30Y7微观结构和电化学特性的影响

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  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• 通过XRD-DSC 同步测量观察油脂的结晶化过程

  食品、药品、化妆品、洗涤剂中使用的植物性油脂由甘油三酯(Triglyceride:TAG)分子构成,而甘油三酯由3个脂肪酸分子和1个甘油分子结合而成。[详细]

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