资料库
仪器网 >
资料库 >Newport用于晶圆和掩膜检测的运动控制
Newport用于晶圆和掩膜检测的运动控制
本文由 青岛森泉光电有限公司 整理汇编
2020-11-06 10:34 983阅读次数
文档仅可预览首页内容，请下载后查看全文信息！
立即下载
MKS 提供了多种高性能的、适用于晶圆检测工具和其他运动控制应用的空气轴承位移台 , 经验丰富的 MKS/Newport 应用工程师与 OEM 客户合作，为正在开发的半导体制造过程提供专门的自动化运动控制解决方案，下文描述这些系统中用于提高精度和动态性能的技术。
相关产品
登录或新用户注册
请用手机微信扫描下方二维码登录 或注册新账号
微信扫码，手机电脑联动
更多资料
Newport用于晶圆和掩膜检测的运动控制 MKS 提供了多种高性能的、适用于晶圆检测工具和其他运动控制应用的空气轴承位移台 , 经验丰富的 MKS/Newport 应用工程师与 OEM 客户合作，为正在开发的半导体制造过程提供专门的自动化运动控制解决方案，下文描述这些系统中用于提高精度和动态性能的技术。[详细]
2020-11-06 10:34
应用文章
晶圆检测 晶圆检测[详细]
2024-09-17 10:26
安装说明
Newport运动控制系统配置与应用 运动控制系统可以根据被测器件以多种方式定制。图1显示了光纤对准系统的不同配置，从简单的单通道单侧设置到更复杂的双面多通道设置，其中包括机器视觉、点胶/固化以及上下料等。其他设置可能包括水平和垂直波束的输入和输出。每种配置都需要一组独特的运动控制产品，这取决于该器件所需的性能。[详细]
2024-09-11 17:59
课件
无掩膜光刻机 光刻机又名掩膜对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩膜版细分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机是一种不需要使用传统掩膜版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩膜光刻机不需要掩膜版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。[详细]
2024-09-15 17:53
产品样册
紫外掩膜曝光光刻机 美国恩科优N&Q系列光刻机（Mask Aligner)，是领xian的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、美国国家半导体公司、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学、台塑、墨尔本大学、华盛顿州立大学、方大集团、大联大集团、光宝科技、汉磊股份、厦门乾照光电股份有限公司等等。[详细]
2024-09-28 08:12
产品样册
8英寸晶圆隔纸 8英寸晶圆隔纸硅片隔离纸晶圆硅片测试片隔纸由上海书培实验设备有限公司生产提供，产品规格齐全，质量优越，欢迎客户来电咨询选购。8英寸晶圆隔纸硅片隔离纸晶圆硅片测试片隔纸产品介绍：IC纸,,表面电阻在107-109次方，电子产品隔离纸,无尘级别：100级，8英寸晶圆隔纸硅片隔离纸晶圆硅片测试片隔纸规格表格：产品名称产品尺寸包装规格产品单价品牌晶圆隔纸4英寸100张/包80元上海书培晶圆隔纸6英寸100张/包110元上海书培晶圆隔纸8英寸100张/包150元上海书培[详细]
2018-11-18 10:00
产品样册
晶圆上的光刻胶残留和有机污染物的可视化 电子行业如何通过使用荧光显微镜对晶圆和半导体进行检测？无论是质量控制、失 效分析和研发都能从中受益 对更强大、更快速的电子设备（智能手机、计算机、平板电脑、显示器等）的需求不断增长，这推动了集成电路（IC）芯片 和半导体组件的图案尺寸缩小到10纳米以下[1-3]。为了实现更小的纳米级尺寸，紫外光刻图案化步骤的数量已经增加，随 之而来的是刻蚀过程中的缺陷和有机污染的可能性增加[2]。这种残留污染可能对工艺控制、产量以及电子组件的性能和可 靠性产生负面影响[详细]
2024-08-22 14:50
选购指南
应用案例 | 晶圆绑定线的失效检测—离子研磨 应用案例 | 晶圆绑定线的失效检测—离子研磨[详细]
2024-09-15 01:07
应用文章
6英寸晶圆检测显微镜：可靠观察细微高度差异 电子和半导体行业如何从用于半导体组件检测的自动化和可重复的DIC显微镜中受益
电子和半导体行业如何从用于半导体组件检测的自动化和可重复的DIC显微镜中受益 在半导体器件生产过程中，晶圆检验对于识别和减少可能影响器件性能的缺陷至关重要。为了提高检验的精确性和效率，光 学显微镜方案应结合不同的对比方法，提供关于图案化晶圆上可能存在的任何缺陷的准确可靠信息。其中，在晶圆检验中起 重要作用的一种对比方法是微分干涉对比（DIC）。[详细]
2024-08-22 14:48
选购指南
材料&地球科学，材料分析，金相学，晶圆检测 材料&地球科学，材料分析，金相学，晶圆检测[详细]
2024-09-11 17:49
应用文章
马尔文 2830 ZT 晶圆分析仪 马尔文 2830 ZT 晶圆分析仪[详细]
2025-04-03 11:13
产品样册
Newport 太阳光模拟器用于光水解研究 背景介绍：
铁酸铋(BiFeO3)这类的铁电半导体，由于其固有的特点可以加速光产生载流子，使得其在太阳能转换和存储方面的应用越来越受到研究。然而，铁酸铋通常是使用复杂和昂贵的制造技术来制备的，如外延生长、射频溅射和脉冲激光沉积等技术，这些在大规模生产制造铁酸铋时成本会很高。
Antonio Tricoli课题组报告了一个简单且可伸缩的多孔铁酸铋(BiFeO3)钙钛矿半导体，通过测试发现其光电化学性能明显提高。通过原子层沉积二氧化钛覆盖物和光辅助电沉积钴氧化物/氢氧化物辅助催化剂作用下，从原始微不足道的光电流密度显著增加到0.16 mA cm−2(在模拟1sun太阳辐照AM1.5G光谱下)。改进的电荷转移和电化学动力学促进了光电氧化活性的显著增强。而且，这种铁酸铋(BiFeO3)光阳极功能相比可逆氢电极将光电化学氧化起始电位从0.7 V降低到0.6 V。[详细]
2020-05-20 11:19
应用文章
晶圆表面与溶液中微粒静电作用 晶圆表面与溶液中微粒静电作用[详细]
2024-09-20 00:04
应用文章
[CN中文]美国Instec温控晶圆夹盘HCC602 [CN中文]美国Instec温控晶圆夹盘HCC602[详细]
2015-08-28 00:00
报价单
[CN中文]美国Instec温控晶圆夹盘HCC302 [CN中文]美国Instec温控晶圆夹盘HCC302[详细]
2015-08-28 00:00
报价单
Santis 300 工业晶圆级定量阴极发光CL-SEM检测系统 中文样本 Santis 300 工业晶圆级定量阴极发光CL-SEM检测系统产品简介、技术参数、应用领域[详细]
2023-03-13 14:43
产品样册
[CN中文]美国Instec温控晶圆夹盘TC102S TC104S [CN中文]美国Instec温控晶圆夹盘TC102S TC104S[详细]
2015-08-28 00:00
操作手册
[CN中文]美国Instec方形夹盘 高低温晶圆夹盘系列 [CN中文]美国Instec方形夹盘 高低温晶圆夹盘系列[详细]
2015-08-28 00:00
其它
[应用速递]Newport Sol-UV 日光模拟器用于钙钛矿太阳能电池 [应用速递]Newport Sol-UV 日光模拟器用于钙钛矿太阳能电池[详细]
2024-09-27 23:54
应用文章
电子鼻检测改性聚砜膜用于啤酒澄清处理的研究 电子鼻检测改性聚砜膜用于啤酒澄清处理的研究[详细]
2024-09-29 14:41
产品样册
Copyright 2004-2026 yiqi.com All Rights Reserved , 未经书面授权 , 页面内容不得以任何形式进行复制
Newport用于晶圆和掩膜检测的运动控制
在线留言
沪公网安备 31011502008050号
参与评论
登录后参与评论