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UVK3高分辨率紫外曝光机
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本文由 泰初科技（天津）有限公司 整理汇编
2020-03-29 12:03 1656阅读次数
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详细介绍了UVK3紫外曝光机的功能及应用领域和规格参数
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UVK3高分辨率紫外曝光机- 详细介绍了UVK3紫外曝光机的功能及应用领域和规格参数[详细]
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2020-03-29 12:03
产品样册
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玻璃碎片曝光机 JZ-SGE-A- 玻璃碎片曝光机/型玻璃碎片曝光仪型号：JZ-SGE-A1.用途:JZ-SGE-A型玻璃碎片曝光机是用于汽车、建筑、机车钢化玻璃碎片状态试验的必备设备。本机精心选择对晒图纸曝光敏感的紫外光做光源，提高了曝光效率，具有玻璃碎片成像清晰的特点；本机应用单片机实现曝光时间和对开式挡光板自动控制；具有曝光时间可调、定时准确的特点；其技术指标符合国家标准《汽车用安全玻璃》(GB9656)、建筑用《钢化玻璃》国家标准(GB9963)，《铁路车辆用安全玻璃》(GB18045)的要求，尤其是能对实物样品玻璃上的商标和3C强制认证标识进行曝光晒图。2.主要技术指标:挡光板开/关时间：≤5s；挡光板Zda开启角度：≤120°；曝光光强稳定时间：≤180s（自动声响提示）；Zdi安装高度：1.6m（对应曝光面积2×1m）；光源起辉时间：≥2s；光源再起辉Z小间隔时间：5min；曝光时间设定范围：1-999s（四位数码显示）；无线遥控距离：≥10m；功率消耗：220VAC≤680W；[详细]
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2018-09-24 10:00
产品样册
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- 紫外掩膜曝光光刻机
- 美国恩科优N&Q系列光刻机（Mask Aligner)，是领xian的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、美国国家半导体公司、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学、台塑、墨尔本大学、华盛顿州立大学、方大集团、大联大集团、光宝科技、汉磊股份、厦门乾照光电股份有限公司等等。[详细]
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2024-09-28 08:12
产品样册
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- KLOE 微流控芯片光刻机/曝光机 UV-KUB系列 资料
- 法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验，其研发的UV- KUB系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统，结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理Zda直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）工艺，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。另外，UV-KUB系列先进的设计，保证了光源的准直性和均匀性，其Z小分辨率可达2μm，Zda发散角小于2°
本系统适用于市面上常用的光刻胶，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
[详细]
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2024-09-15 17:10
标准
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- 紫外老化试验箱：UV光与湿度曝光法
- 紫外老化试验箱采用能**模拟阳光中UV段光谱的荧光紫外灯，并结合控温、供湿等装置来模拟对材料造成变色、亮度、强度下降；开裂、剥落、粉化、氧化等损害的阳光（UV段）高温、高湿、凝露、黑暗周期等因素，同时通过紫外光与湿气之间的协同作用使得材料单一耐光能力或单一耐湿能力减弱或失效，从而广泛用于对材料耐气候性能的评价，设备具有提供**的阳光UV模拟，使用维护成本低廉，易于使用，设备采用程控器自动运行试验周期，自动化程度高，灯光稳定性好，试验结果重现率高等特点。北京恒泰丰科试验设备有限公司地址：北京市东四环南路53号邮编：100023电话:010-57926051（总机）010-57926052传真：010-57926062E-mail:bjhtfk@163.com本资料可以从以下网站免费下载：http://www.bjhtfk.comhttp://www.htfk17.comhttp://www.bjhtfk17.comhttp://www.htfksyx.comhttp://www.010sy17.com[详细]
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2018-10-05 10:01
产品样册
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- KLOE 微流控芯片光刻机/曝光机 UV-KUB系列 资料二
- 法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验，其研发的UV- KUB系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统，结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理Zda直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）工艺，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。另外，UV-KUB系列先进的设计，保证了光源的准直性和均匀性，其Z小分辨率可达2μm，Zda发散角小于2°
本系统适用于市面上常用的光刻胶，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
[详细]
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2024-09-15 17:11
标准
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- 紫外老化试验箱UV机国际标准
- 紫外老化试验箱UV机国际标准详情请浏览：http://www.010sy17.com[详细]
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2018-10-05 10:00
产品样册
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- 利用极紫外（EUV）辐射实现高分辨率成像！
- 极紫外（EUV）应用亮点●●
//1｜新的台式光源使 10-100 纳米级的应用变为现实
//2｜极紫外线应用包括计量学、纳米级成像和电子光谱学
//3｜极紫外线系统通常采用反射光学系统因为折射系统的光吸收率高
//4｜表面粗糙度至关重要因为较短波长处的散射通常更高
极紫外线 (EUV) 辐射包括在 X 射线和深紫外线 (DUV) 光谱区域之间约 10nm 至 100nm 的波长带。随着极紫外线领域（包括光刻技术、纳米级成像和光谱学等）中对于许多应用的需求日趋紧迫，Z jin 均已着手开发紧凑型极紫外线光源。这一努力为几种极紫外线光源带来了商业可用性.
几乎所有材料都能够 完 quan 吸收极紫外线辐射，因此光学元件几乎都是反射，而不是透射的。由于波长很短，因此对极紫外线光学元件表面的质量要求比可见光元件的要求更高。虽然由于其苛刻的要求，生产极紫外线光学元件并非易事，但因极紫外线辐射在高分辨率成像、光谱学和材料加工等方面的优势，仍然值得为此付出努力.[详细]
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2022-03-11 09:29
标准
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- ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化试验箱UV机国际标准
- ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化试验箱UV机国际标准[详细]
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2018-10-05 10:00
产品样册
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- QUV 紫外加速老化试验机产品样册
- QUV 紫外加速老化试验机产品样册[详细]
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2024-09-29 05:18
实验操作
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- ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化试验箱UV机国际标准.pdf
- ASTM_D_4587__UV_resistance紫外老化试验箱UV机国际标准.pdf[详细]
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2015-09-09 00:00
课件
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- 人工加速老化试验机/紫外老化试验机产品样册
- 人工加速老化试验机/紫外老化试验机产品样册[详细]
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2016-10-20 09:41
应用文章
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- Phasics-High-resolution_Interferometer高分辨率干涉仪
- Phasics-High-resolution_Interferometer高分辨率干涉仪[详细]
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2015-11-30 00:00
其它
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- HR4Pro 高分辨率光纤光谱仪
- HR4Pro 高分辨率光纤光谱仪[详细]
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2024-09-12 10:47
产品样册
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- 高分辨率光频谱仪
- 高分辨率光频谱仪[详细]
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2024-09-11 18:03
应用文章
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非金属材料紫外线老化试验箱曝光使用标准- 非金属材料紫外线老化试验箱曝光使用标准[详细]
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2013-05-15 00:00
期刊论文
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- 高分辨率X射线成像系统 高分辨率X射线成像系统产品样册
- 该高分辨率X射线成像系统是为X射线光束对准应用而设计的。它采用了独特的机械结构，可结合各种相机实现实时X射线光束对准。 铍输入窗实现了宽范围的X射线能量；并配以L形石英光学系统，可提供高X射线辐射耐受性。 [详细]
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2024-10-02 13:18
产品样册
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- EQ4000 高分辨率光纤光谱仪产品样册
- EQ4000 高分辨率光纤光谱仪产品样册[详细]
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2016-10-18 14:30
实验操作
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- 高速高分辨率拉曼光谱扫描成像技术
- 高速高分辨率拉曼光谱扫描成像技术[详细]
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2024-09-14 11:32
其它
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