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西恩士工业 | 筑牢可靠性的“微观防线”,西恩士工业邀您合肥相约,共话清洁度分析新篇章!

来源:苏州西恩士工业科技有限公司 更新时间:2026-03-10 09:45:26 阅读量:341
导读:3月10日-12日,2026第三届功率半导体技术应用与装备展览会即将于中国合肥新站喜来登酒店隆重召开。


3月10日-12日,2026第三届功率半导体技术应用与装备展览会即将于中国合肥新站喜来登酒店隆重召开。作为技术清洁度分析领域的高新技术企业,西恩士工业受邀参与此次行业技术交流盛会,与业界同仁共话功率半导体制造中的“洁净”未来。

会议亮点抢先看

本次大会以“智驱未来·芯聚生态”为主题,汇聚了来自产、学、研各界的专家,共同探讨功率半导体与金刚石产业的技术发展趋势与应用挑战。西恩士工业深耕技术清洁度分析16年,自主研发多项专利技术矩阵覆盖从光学器件到智能检测全链条。我们期待在展会现场,与您深入交流如何通过国际认证的清洁度解决方案,为功率半导体封装、测试及模块制造环节筑牢质量基石,助力产业实现良率提升与绿色制造目标。

为何功率半导体需要清洁度检测?

在功率半导体器件及模块的制造过程中,微米级的颗粒污染物都可能导致键合失效、热阻升高、绝缘性能下降乃至最终器件报废。传统的清洁度管控方法往往存在效率低下、易二次污染、数据追溯难等痛点。西恩士工业依托全球化供应链整合能力,为半导体、液冷、新能源汽车等高端制造领域提供通过 VDA19ISO16232等国际认证的一站式清洁度解决方案,累计服务全球超3000家企业实现良率提升。

西恩士创新解决方案亮相

本次展会,我们将重点展示为精密制造环境量身定制的尖端清洁度检测与监控设备。

PartSens清洁度检测仪

创新技术,精准高效:采用国际标准(ISO14644-9, VDA19.2)推荐的斜射光技术,实现“取样即判读”,数秒内即可完成表面污染分析,克服了传统方法的二次污染与效率低下问题。

全面分析,智能识别:精确检测从5微米到3000微米的粒子大小和数量,并能智能区分金属、非金属、纤维等不同粒子种类,通过颜色直观显示,帮助快速锁定污染源。

移动无线,便捷灵活:设备内置电池并支持无线传输,可在无尘室内自由移动,轻松对各种复杂表面(如工作服、机台、墙面)进行原位检测。

权威认证,数据驱动:作为唯一被VDA19.2收录的表面洁净度监控设备,其权威性备受认可,为优化清洁流程、设定目标清洁度提供可靠依据。

APMON环境清洁度检测系统

精准监测,溯源管理:实时监控并记录15~1000μm范围内落下粒子的数量、大小及时间分布。通过比对粒子产生高峰与现场人为活动,精准溯源污染根源,实现从“被动响应”到“主动预防”的升级。

合规权威,数据驱动:独家内置粒子堆积率(PDR)计算功能,其评价体系完全符合ISO 14644-17国际标准,为无尘室认证与日常管理提供权威、量化的数据支持。

技术领先,部署灵活:采用独特的雷射全像技术,实现大面积、高效率的3D成像监测。支持有线网络与蓝牙连接,内置长效电池,安装便捷,广泛适用于半导体、医药、航空航天等高精尖产业。

洁净制造,质量先行

在功率半导体迈向更高功率密度、更小尺寸和更高可靠性的道路上,制造环境的洁净度控制是确保产品长期可靠性的关键一环。西恩士工业的解决方案能够:

提升产品良率:从源头杜绝因颗粒污染导致的封装缺陷与失效。

满足车规级要求:为新能源汽车功率模块提供符合严苛可靠性测试的清洁度度保障。

实现数据化管控:通过智能分析与数据追溯,助力企业建立可量化、可优化的洁净生产管理体系。

如果您正面临功率半导体器件、模块或先进封装过程中的清洁度管控难题,寻求更高效、更智能、更符合国际标准的检测与监控解决方案。

欢迎莅临合肥新站喜来登酒店展会现场,亲身体验我们的创新技术与设备。

展会时间:2026年3月10日-12日

展会地点:合肥新站喜来登酒店二楼大宴会厅

期待与您相聚合肥,共探功率半导体洁净制造新技术,携手迈向零缺陷的智能制造新篇章!



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