产品速递｜半导体专用超纯水机ω系列

半导体专用

超纯水机w系列

半导体芯片、半导体材料以及半导体器件制造过程中如果有痕量元素污染会影响硅片性能从而导致缺陷，因此在晶圆制造过程中都需要使用超纯水和高纯度化学品以最 大 程 度降低污染，在对应控制实验室也要求使用超纯水对半导体行业中所用的高纯化学品进行超痕量分析，为了保证检测结果，需要低背景超纯水。

将零杂质做到”极 致”

对痕量分析、高灵敏度分析产生影响的超纯水水质，超纯水的质量影响微量分析和高灵敏度分析。无限纯净的“H2O"，电阻率 18.2MΩ・cm，TOC≦1ppb，二氧化硅<0.1ppb，硼<10ppt。采用高品质下一代超纯水离子交换树脂。

将多用途做到“极 致”

为了能够无污染地使用超纯水，功能方面也做到了极 致。采用可进行单滴取水的高性能取水器，可做到定量取水、脚踏开关水采样。

将高配置做到“极 致“

考虑到实验室的安装环境，简单是最 好的！纯水水箱内置的一体机包装，无需多余架台。 装置附有脚轮，易于移动和搬迁。

用途

超纯水的杂质主要分为三类：

痕量金属杂质，容易污染的比如钠、钾、钙、镁、硼等，同时需要控制特殊工艺受到影响的元素。

痕量阴阳离子杂质，如常见的阴离子为氟离子、氯离子、硝酸根、硫酸根、磷酸根等，阳离子如铵根、锂、钠、钾、镁、钙等离子。

痕量的有机污染物等。

由于杂质要求达到ppt等级时，电导率不再是可以表征超纯水中杂质，特别是金属杂质和阴阳离子杂质的有效手段。只能通过用先进的分析仪器来测定金属和离子的真实含量，才能了解超纯水的真实质量。