随着化合物半导体技术的快速发展，阴极发光扫描电镜（CL-SEM）凭借其独特的材料特性分析及缺陷检测能力，成为研发、生产和质量控制中不可或缺的工具，Attolight CL-SEM更是其中的佼佼者：

?? 新材料的出现为纳米电子和光电子器件铺平了道路。例如，基于III-V的合金彻底改变了LED行业，在高功率电子器件中得到应用。然而，这些器件的大规模应用仍然受到高度集中晶体缺陷或杂质缺陷的限制，这些缺陷通常具有亚纳米尺寸，传统方法（TEM、AFM）很难直接观察到（见图1）。因此，缺陷计量对于评估制造工艺具有非常重要的意义。Attolight CL显微镜通过将小探针尺寸与大视场相结合克服了这些局限性，使得在光电器件中进行缺陷成像和计数具有成本效益且更加精确（见图2、图3）。

从材料研发到量产质控，阴极发光扫描电镜（CL-SEM）为半导体的迭代升级提供了微观尺度的工具。随着氮化镓（GaN）、碳化硅（SiC）等技术的突破，Attolight将持续推动半导体向更多行业和领域的发展。