精益求精 | 珀金埃尔默半导体解决方案（上集）

珀金埃尔默半导体制造分析

技术概览

珀金埃尔默广泛服务于半导体行业用户，我们为半导体实验室提供全光谱和质谱的实验室产品和服务，包括电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）、电感耦合等离子体光谱仪（ICP-OES）、原子吸收光谱仪（AAS）、气相色谱（GC），气相色谱质谱仪（GC-MS）, 傅里叶变换红外光谱仪（FT-IR），紫外可见光谱仪（UV），热分析（TA）等及消耗品和服务。在我们提供的所有产品中，珀金埃尔默提供了强大的分析工具，与无与伦比的分析速度和理想的结果。

珀金埃尔默半导体行业

无机元素与纳米颗粒检测方案

珀金埃尔默的原子光谱包括原子吸收光谱技术、电感耦合等离子体原子发射光谱技术和电感耦合等离子体质谱技术。

珀金埃尔默无机元素

与纳米颗粒检测典型应用

晶圆表面金属杂质自动分析（VPD-ICP-MS）

全自动晶圆表面气相分解技术（Vapor Phase Decomposition, VPD），主要是利用ICP-MS针对极微量元素分析的专业技术。此为半导体制程中进行晶圆表面金属杂质分析时不可或缺的管理项目。半导体可容许的金属杂质浓度，随着制程的先进化要求越来越低。过去生产在线所使用的全反射荧光X射线法(TRXRF)，虽然其优点是采用非破坏性分析法，不过检测范围狭窄，无法达到越来越严苛之要求；目前全自动晶圆表面气相分解技术（ Vapor Phase Decomposition, VPD）可大幅改善检测范围，为目前较先进的前处理法。藉由ICP-MS直接分析前处理后的溶液，可测定更低浓度的金属杂质。VPD-ICPMS可设置在半导体制造工厂（FAB）内，与处理装置连动进行全自动分析。

珀金埃尔默半导体行业

有机物检测方案

针对半导体行业对高纯试剂，原料等纯度和杂质检测以及对良品率有直接关联的洁净室中有机污染物（AMC）监控的需求，珀金埃尔默公司提供全套解决方案。

自1955年PerkinElmer公司发明第 一台商业化气相色谱仪以来，珀金埃尔默公司在有机化合物检测上不断推动技术进步，并先后发明了实用化的气质联用技术以及可实现离线和在线空气监测的热脱附技术。珀金埃尔默公司完整的产品线和数十年的应用经验，为半导体行业的有机物检测提供了更灵敏，更稳定的解决方案，并赢得了行业内客户的青睐。

热脱附-气相色谱/质谱

气相色谱/质谱联用

洁净室有机污染物检测（洁净室有机污染物监测AMC系统）

珀金埃尔默半导体行业

材料组份检测方案

红外光谱仪测试电路板胶水固化率（Spectrum Two傅里叶变换红外光谱仪）

红外显微镜测试电路板污染物（Spotlight 200i全自动红外显微镜）

热机械分析仪测试热膨胀系数（TMA 4000热机械分析仪）

差示扫描量热法测量基板固化程度（DSC 8000功率补偿型差示扫描量热仪）

热重分析仪测试基板成分浓度（TGA 8000 热重分析仪）