徕卡邀您参观2021ZG材料大会暨展览会

2021ZG材料大会暨展览会即将于7月9-11日在厦门国际会展ZX召开，徕卡显微系统受邀参会。

公司简介

徕卡显微系统总部位于德国维兹拉，自公司十九世纪成立以来，徕卡以其对光学成像的追求和不断进取的创新精神始终得到业界广泛认可。徕卡在复合显微镜、体视显微镜、数码显微系统、激光共聚焦扫描显微系统、电子显微镜样品制备和YL手术显微技术等多个显微光学领域处于领先地位。自创立至今，徕卡的光学足迹已遍及世界100多个国家，在欧洲、亚洲与北美有6大产品研发与生产基地，在20多个国家设有销售或服务支持ZX，以及遍布世界的经销商服务网络。

展位号：H01
徕卡显微系统展品
展品介绍：徕卡EM TIC 3X离子研磨仪

徕卡EM TIC 3X通过离子枪激发获得的离子束，以垂直于样品侧面纵向轰击样品，可获得高质量无应力“切割”的样品截面，便于SEM观察。该处理方法适用于多层膜材料、软硬复合材料等高难度制备样品，并且操作简单，可有效避免涂抹效应，不需要大量摸索条件即可获得理想的截面，使样品暴露内部细微真实结构信息。还可选配旋转样品台，冷冻样品台，三样品台等，满足各种应用及高通量需求。
展品介绍：徕卡EM TXP 精研一体机

徕卡EM TXP是一款多功能机械修块研磨抛光一体机，适用于对目标定位，进行铣削、切割、冲钻、研磨、修块及抛光等。特别适合于对样品微小目标的精细定位、切割等加工。其主要功能为：可用于光镜观察前样品切割、机械抛光等制备；可用于EM TIC 3X/UC7样品前制备，对样品进行机械修块；还可用于EM RES102样品前制备，获得Φ3mm样品圆薄片。
展品介绍：徕卡EM ACE600高真空镀膜仪

徕卡EM ACE600是一款高真空镀膜仪，采用全无油真空系统，真空度可达2x10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚监控器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。可选离子溅射镀膜功能，满足高分辨场发射扫描电镜需求，可选碳丝碳棒蒸发镀膜功能，用于X射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网喷碳膜。还可选择电子束蒸发镀膜，用于DNA投影等高级应用。
展品介绍：徕卡M205光学显微镜

革新性的光学概念，克服了传统体视显微镜的固有局限性，拥有徕卡Fusion Optics融合光学技术。Leica M205 C是拥有20.5:1变倍比的体视显微镜，光学分辨率高达0 . 9 2 5 μ m ，内置可调双光阑，可调景深和分辨率。同时M205 C也是一款编码显微镜，可自动控制照明强度，可自动识别所采集的照片倍数，并加载相应倍数的比例尺。存储图像时，参数随同图像一起保存，以便随时调用。

徕卡显微系统报告

分会场D06

先进微电子与光电子材料

报告题目

芯片的电镜制样方法

报告人

包沈源（徕卡显微系统电镜制样应用工程师）

报告时间

7月9日15:50-16:05

分会场E02 

材料界面/表面分析与表征

报告题目

材料平整断面的制备和观察方法

报告人

武素芳（徕卡显微系统电镜制样应用工程师）

报告时间

7月10日17:05-17:25

展区现场技术报告

现场会议区B

报告题目

徕卡电镜制样在新能源和半导体材料领域的应用

报告人

包沈源（徕卡显微系统电镜制样应用工程师）

报告时间

7月10日13:30-14:00