CIOE中国光博会热力来袭,优尼康邀您共赴盛会!
本届CIOE中国光电博览会汇聚了来自超30个国家和地区的超3700家的优质参展企业,作为覆盖光电全产业链的综合型展会,覆盖信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外、紫外、智能传感、新型显示等板块。优尼康将参展第二十五届中国光电博览会!
诚邀您莅临观展
优尼康将携多款膜厚仪参展
期待与您现场探讨膜厚测量的种种应用!
现场还有更多趣味互动,等你赢奖品~
优尼康在深圳国际会展中心3号馆
展馆预览图
优尼康展位3B22
展位预览
更多惊喜活动逐步解锁中
参展设备
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F50 膜厚测量仪 | ||
F50可以非常简单地获得直径450毫米的样品薄膜厚度分布图。采用r-θ 极坐标移动平台,可以快速定位所需的测试点并且实时获得测试厚度,大约每秒测试两点。 | ||
相关应用:半导体制造(光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨);LCD 液晶显示器(聚酰亚胺、ITO 透明导电膜);光学镀膜(硬涂层、抗反射层);MEMS 微机电系统(光刻胶、硅系膜层)。 |
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P7 台阶仪 | ||
P-7可以对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量,其扫描可达150mm而无需图像拼接。 | ||
相关应用:薄膜/厚膜台阶;蚀刻深度量测;光阻/光刻胶台阶;柔性薄膜;表面粗糙度/平整度表征;表面曲率和轮廓分析;薄膜的2D stress量测;表面结构分析;表面的3D轮廓成像;缺陷表征和缺陷分析。 |
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F54-XY-200 薄膜厚度测量仪 | ||
F54-XY-200配备自动化薄膜厚度绘图系统,借助F54-XY-200先进的光谱反射系统,可以快速轻松地测量200 x 200mm样品的薄膜厚度。 | ||
相关应用:半导体制造(光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨);LCD 液晶显示器(聚酰亚胺、ITO 透明导电膜);光学镀膜(硬涂层、抗反射层);MEMS 微机电系统(光刻胶、硅系膜层)。 |
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Profilm3D 白光干涉光学轮廓仪 | ||
Profilm3D 使用垂直干涉扫描 (WLI) 与高精度的相位干涉 (PSI) 技术。以强大的性价比实现次纳米级的表面形貌研究。 | ||
相关应用:粗糙度测量;三维形貌表征;台阶高度测量 |
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FS-1 多波长椭偏仪 | ||
Film Sense FS-1多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现可靠地薄膜测量。 | ||
相关应用:二氧化硅和氮化物,高介电和低介电材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻胶。高和低指数薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有机薄膜(OLED 技术)等 |
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