德国耶拿ICP-OES PlasmaQuant 9100

应用范围：

  各种样品中低含量、微量和痕量的金属元素，以及部分非金属元素的定性和定量分析；
  尤其适合分析样品量大，分析结果要求高的用户；
  可广泛应用于 石油、化工、冶金、钢铁、地质、农业、环保、水质、食品、药品、疾控、材料、质检等行业
技术特点：
   超高的分辨率+优异的光学性能
 　PlasmaQuant 9100光学分辨率可达3pm，达到谱线自然宽度水平，因此即便面对复杂的基体样品，也可轻松应对光谱干扰。同时，PlasmaQuant 9100采用原装的卡尔蔡司光学系统，保证了160nm-900nm波长连续全覆盖和优于0.0004nm的波长准确度。

    高分辨率可在最 大范围内提供ZJ的分辨率的分析谱线，特别适合各种复杂样品的检测，提供准确的分析结果，让分析工作变得更为简单gao效。

    增强型双向观测技术
　　一次进样4种观测方式，没有浓度断档，无需分组或稀释，可满足不同浓度（ppb-%）的同步测量，为所有元素和浓度提供最合适的观测和测量方式，满足所有应用要求。

    最 强劲稳定的等离子体激发系统
　　PlamaQuant 9100高分辨率ICP-AES配备高能量、高稳定的等离子体激发系统，可从容应对最复杂基体样品的测定，显著扩大测试的应用范围。同时由于仪器在复杂基体中可获得极低的检出限和样品允许使用更少的前处理步骤，使得测试结果更加jing准、方法稳定性更佳，测试效率大大提高。满足省时：开机即测(5分钟)；省气：无需提前和延时吹扫，所有吹扫气体和冷却气体都将引入等离子气充分利用；省事：高浓盐、有机样、高低浓度一次完成测定。　　

　 直观的软件界面，智能的背景扣除技术
　　Aspect PQ软件控制、监控和记录整个PlasmaQuant 9100系统的所有过程，模块化设计简洁，提供最大的操作灵活性。

       ABC背景校正技术，软件可自动精确扣除背景，消除人为误差，保证数据准确，可重现性好。

       CSI，先进的光谱建模扣背景技术，可将样品基体的精细结构背景，在测量时通过模型进行扣除，得到测试元素本身的谱图，还原谱线本真模样。

      人性化设计 — 即开即测，操作便捷、维护简单

     * 即开即用 — 高性能新一代CCD检测器

     * 省时省气 — 测试结束即可关机，深紫外区元素无需长时间提前吹扫

     * 实时自检系统 — 全方位保障，使您安心

     * 组合式炬管 — 高灵活性，降低成本

     * 卡插式设计 —自动准直，1分钟即可完成安装
　　

      PlasmaQuant 9100是工业等许多应用领域分析的有利帮手，可揭示样品的最小细节，助您在质量控制、成分分析和过程控制方面大有所为！

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