3D显微镜/轮廓仪纳米级至毫米级 表面形貌分析
白光干涉/景深融合/共聚焦 三合一测量
MV-1000神影系列3D显微镜结合高精度扫描和高精度算法, 可以实现纳米级到毫米级尺度 的表面形貌分析,包含粗糙度、台阶、面形轮廓、曲率等多种参数。由于其无接触(无损检测)、对样品表面刚性无要求、精度高、快速扫描等特点,已经被广泛运用于半导体、光学材料、生物芯片、金属表面、精密加工等行业。
多模式:
白光干涉、景深融合、共聚焦、明场观察不同观察模式,一台显微镜实现不同场景测量需求

高精度:
在不同测量模式,可实现亚纳米到纳米级精度的分析结果
快速度:
独有AI算法分析图样,实现“无延迟”的结果输出,体验“一键式”结果测量
模块化:
无论是特殊样品需求还是功能需求,可提供“模块化”定制功能产品,满足各类特定场景工作流任务
适用多行业应用需求
MV-1000神影系列显微镜,以其卓越的光学检测技术,满足不同行业和应用场景的严苛需 求。无论是生物芯片、半导体、光学材料检测,我们都提供定制化的观察和测量解决方案,以适应您的特定需求。
一键测量:简单易用
MV-1000神影系列显微镜
MV-1000神影系列显微镜采用前沿的一体化设计理念,将科技与精密工艺融合。紧凑的内部构造和固定光学元件,不仅确保了操作的便捷性,更大幅提升了系统的稳定性与可靠性,让您的每一次观察都无误。
搭载我们自主研发的智能优化算法,MV-1000神影系列在任何工作模式下均能提供无与伦比的“实时”采集体验,快速响应,无需等待,实时图像采集让微观世界的每一次微妙变化尽在掌握。
深知行业差异化的重要性,MV-1000神影系列允许客户根据特定行业要求定制检测报告。从数据采集到报告生成,每一步都严格遵循您的标准,确保信息的精确传达和高效决策。
在半导体检测领域,可在线检测晶圆台阶高度、平面度、粗糙度等参数。通过非接触式测量技术,避免晶圆产生划痕缺陷,同时实现高通量测量。
允许大尺寸晶圆拼接,导航寻图,进行快速检测
* 200亿像素融合拼接,支持区域导航功能,快速检测分析
光学材料领域,精密检测技术可以帮助提高光学镜片的产品质量与性能
表面粗糙度、面形等参数是影响光学镜片品控与性能的重要因素
生命科学领域,检测微流控芯片或其母版表面粗糙度 ,以及微流道高度和宽度,实现精确把控微流控芯片的反应效率、 试剂混合程度、以及液体流速等因素
在3C电子产品及精密加工行业中,可快速、高精度地测量产品机加工划痕,粗糙度等指标
报价:面议
已咨询99次3D显微镜
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已咨询188次光学轮廓仪
报价:面议
已咨询309次Filmetrics 3D光学轮廓仪
报价:面议
已咨询5588次轮廓仪
报价:面议
已咨询7590次轮廓仪
报价:面议
已咨询1939次三维白光干涉仪
报价:¥10
已咨询852次三维共聚焦干涉显微镜
报价:面议
已咨询6652次光学轮廓仪
TTT-02-Kerr Microscope磁光克尔显微镜综合测试设备不仅是一台显微镜,更是一个集高分辨显微成像、多模式磁学激励、原位电学测量于一体的综合性研究平台,旨在为磁学与自旋电子学领域的尖端研究提供前所未有的强大工具。
托托科技的“神影MV-1000系列”3D显微镜,集成了白光干涉、景深融合和共聚焦三种测量模式,能够进行纳米级到毫米级尺度的表面形貌分析,包括粗糙度、台阶、面形轮廓、曲率等多种参数。
SU-8光刻胶是一种基于环氧树脂的负性光刻胶,其中“负性”意味着当光刻胶暴露于紫外线时,暴露部分会形成交联,而未被暴露的部分在显影过程中会被冲洗掉,其名字来源于其结构中的8个环氧基团,这些环氧基团可以交联形成最终结构。
托托科技推出的无掩模光刻机,以其革命性的技术革新,为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和高效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造,还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域,我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。
织雀®系列超高精度3D光刻设备专为复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构的制造而设计,凭借其性能,成为微纳制造领域的理想选择。