珀金埃尔默 ICP OES Avio 500 电感耦合等离子体发射光谱仪

低成本 高效率

全谱直读，高灵敏度、高分辨率的Avio 500让您实验室 的每分钱投入都获得巨大的回报，即使复杂的样品也 能应付自如。 

Avio 500拥有：

• 垂直炬管设计带来的出众基体耐受力

• 超低的氩气消耗，比任何其他同类仪器节约氩气50% 以上

• 同时扣背景功能，测样速度更快，结果准确度更高 

• 双向观测技术、全谱直读和低维护要求带来的更高 仪器使用效率 Avio 500的时代到来了，一旦拥有，无限可能。

专业高效

可快速更换的垂直炬管 Avio 500系统的垂直炬管不仅提供不同寻常的基体适应性，还降低了仪器 的维护要求。

特的设计让炬管调节变得简单快速，即使点炬状态也能进 行。

可单独拆卸的中心喷射管进一步简化了维护和降低了潜在的损耗成 本。

垂直炬管还具备以下特点：

 • 自动自准直、一致的观测高度

 • 使用多种雾化器和雾室的灵活性

Flat PlateTM 平板等离子体技术 珀金埃尔默的平板等离子体技术仅需同类系统一半的氩气消耗即可 获得稳健且耐受多种基体的等离子炬。两块与样品通道垂直的平板产生 感应电磁场，维持稳定而对称的等离子炬。让您节省50%以上的氩气，同 时也减少了更换气瓶的时间。平板等离子体技术带来了：

 • 超低的氩气消耗量

 • 延长的免维护正常工作时间 

• 无需冷却，这点与传统螺线圈截然不同

 • 更稳健的等离子炬

双向观测 无论轴向或径向观测，Avio 500的双向观测技术具备完全的波长覆盖 范围，不损失光能量和灵敏度。即使长波长（>500nm）和短波长（<200nm） 元素也能在同一次测定中获得理想的结果。双向观测技术还具备下列优点：

 • 无论轴向或径向观测都能保证数据质量

 • 径向观测可通过优化观测高度轻松消除易电离元素干扰

 • 一次进样同时测定高低含量元素

 • 简化样品制备和稀释操作 

• 减少样品重复运行

更专业 更高效

PlasmaCamTM观测相机 集成式彩色相机不间断地显示等离子炬实时影像，简化方法开发并提供远 程诊断功能。

珀金埃尔默的等离子炬观测相机让您可以：

 • 实时观察等离子炬

 • 实施远程诊断

 • 在测样的同时方便可靠地掌握进样系统各部件的状态

PlasmaShearTM无需氩气的干扰消除技术 这项创造性的技术通过切除低温的等离子炬尾焰，高效、可靠、经济、很大程 度上消除了尾焰干扰，而且还不消耗氩气。该技术避免了提取装置或锥的使 用，是全自动的干扰消除系统。

PlasmaShear技术提供了：

 • 更大的线性动态范围

 • 更好的性能

先进的光学系统 拥有不同寻常的稳定性和准确度，

Avio 500恒温稳定的光学系统可以提供：

• 优异的检测限 

• 全光谱范围的高分辨率和高性能 

• 实时背景校正功能实现更快速的样品测定和更好的准确度

两个分段阵列式电荷耦合检测器（SCD） 为了在全光谱范围实现高分辨率，

Avio 500 ICP发射光谱仪采用了两个高性能SCD检测器，紫外区和可见区各 一个。

双SCD检测器带来：

 • 长期坚实的高性能和高可靠性

 • 优异的检测限

优秀的设计 由内而外

 平板等离子体技术 

-更坚实稳定的等离子炬

 -超低的氩气消耗 

-免维护 -免冷却

 垂直炬管 

-对任何样品类型都可达到 

—100%的基体耐受力

 -调整方便快速

 -拆装后可快速方便复位 -无需工具，易维护

 双向观测 

-理想的轴向和径向等离子炬观测 

-通过优化径向观测高度可轻松消 除易电离元素干扰

 -任意波长均可实现一次进样高、 低浓度同时测定

等离子炬尾焰切除系统 

-无需氩气消除尾焰干扰 -免维护设计（没有需要清洗 的锥或提取装置）

 彩色等离子炬相机 

-简化方法开发

-远程诊断功能实现超长的正常工作时间 

-测定过程中实时掌握等离子

 -炬、中心喷射管和炬管状态

全能数据采集（UDA） 

-全波长、全时的同时检测能力

 -无需特殊分析模式

 -更少的样品重复运行

 -完全免除时间和存储负担

 4通道、12辊蠕动泵 

-更优的进样适应性

 -更优的稳定性 -更好的精密度

 占地面积小

 -76 × 84 × 87 cm（宽 × 深 × 高）

为满足您需求 而开发的软件

直观的Syngistix TM ICP发射光谱软件经过精心设计 以对应您的实际工作流程。仔细考虑分析过程的 每一步骤以达到一致性、高效性和可靠性的统一。

 跨平台的软件包提供：

 • 直观的、从左到右、基于图标的设计 

• 内建、预设的方法实现更快、更方便的使用， 只需很少的培训 

• 进一步扩展的质量控制选项，包括质控图绘制 

• 跨AA、ICP和ICP-MS的通用软件平台