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新型硅碳连续式CVD炉

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详细介绍


设备特点:

(1)该使用温度低于1000度

(2)该设备为连续式设备

(3)该设备为全密封结构

(4)该设备生产过程保护气体消耗量小

(5)该设备可以精确控制物料在炉内的停留时间

(6)该设备可以在一种或多种气氛下烧结

(7)该设备可以实现气相沉积烧结(CVD法制备硅碳)

(8)该设备炉管材料可以选择金属或非金属制作

(9)该设备温控精度高(≤2℃)

(10)该设备可以直接测试物料的温度

(11)该设备温控采用PLC+PID方式

(12)该设备的炉衬全部选用轻质耐火材料

(13)该设备产量大,能耗低,占地面积小


产品优势
该设备是一款专业应用于新型硅碳,硅氧碳,碳纳米管制备的CVD炉,具备高密封和均匀性,可连续式生产。
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