产品简介




导线框架(QFN)和BGA背蚀刻和半蚀刻系统
| 硷性蚀刻: •蚀刻速率:25 - 40 um / min,适用於厚铜(15um以上)蚀刻技术。
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| 酸性蚀刻: •蚀刻速率:5-10微米/分钟,适用於簿铜(15um以下)蚀刻技术。 | ![]() | |
Chemcut 2300 系列
小批量生产批量和原型系统
Chemcut 2300 是一种紧凑,双面,水平,传送带式,振荡喷射处理系统系列,采用了与大型系统相同的成熟技术和质量。 2300系列非常适用于实验室,原型和小批量印刷电路以及化学机械加工零件,仪表板和铭牌。
本系列湿法设备有多种配置,可用于铜和氯化铁蚀刻,碱性氨蚀刻,抗蚀剂显影,化学清洗和抗蚀剂剥离。该机器的特殊版本可用于专业处理,如使用氢氟酸和硝酸混合物进行蚀刻以及高温蚀刻(zui高160°F,71°C)。
适用于: 铁蚀刻 铜蚀刻 碱性蚀刻 抗蚀剂显影 抗蚀剥离 宽度15到20英寸 18 X 24功能
| 应用于: 小批量商店 开发实验室 研发部门 大学 特殊加工 替代化学品 研磨特殊合金 减少废物
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湿式加工设备 CC8000
CC8000 设计用於加工半导体,IC (引线框架和IC基板),高端HDI PCB / FPC,触控和LCD显示萤幕,太阳能和精密金属零件。其独特的喷涂架设计使其能够达到更高水平的蚀刻品质。自启动以来,已成交并安装了700多个系统。
| 晶圆图案制作: •乾膜显影 晶圆Bumping湿法工艺: •光阻显影:与Pad制作类似
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报价:面议
已咨询2475次湿法蚀刻设备
报价:面议
已咨询3432次湿法激光粒度仪
报价:面议
已咨询4186次湿法激光粒度仪
报价:面议
已咨询727次反应离子刻蚀
YXLON Cougar EVO系列主要为SMT半导体和实验室应用提供“绝佳"检测解决方案,同时保持最小系统占用空间,以实现最大的便利性。优质设计和新的超锐显示器简化,增强可靠的X射线检查。
WEB9051离心机是WEB9000系列的最新型号。 是WEB Technology长期在半导体晶片恒定加速度测试的研究成果。 设计重点强调安全性高,可靠性高和适应性广。
TherMoiré 设备系列能提供广泛的平整度检测特性技术。是温度效应测量技术的行业先锋,全球二十大半导体生产商,都采用了Akrometrix的解决方案。
ABET 所制造的太阳光模拟器(Solar Simulators) 及 IV、QE/IPCE 量测系统 (IV-Testing Measurement Systems) 提供了无与伦比的价格和效能。
灵活丶高速丶定量的细胞成像系统 全面超越转盘激光共聚焦的限制,为定量的活细胞成像而设计! Opterra II 专为活细胞长时间连续成像设计,是对敏感活细胞样本成像的最佳选择。在蛋白质定位和运输丶细胞内离子成像丶微管和囊泡运动丶细胞核结构和动态等均有上佳表现。
世界上最快的超高分辨率显微镜 活细胞、高速、超高分辨率、3D 成像 分辨率 20nm@XY,50nm@Z, 采用单分子定位技术,单层扫描时间 10 秒钟。
快速、灵活的活体深层成像平台更深 (1350um)、更快 (45FPS@12KHz)、更清楚、并适合大动物成像。