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康宁7980上镀Si3N4

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详细介绍

产品名称:

康宁7980上镀Si3N4SiliconNitrideFilm(LPCVD)onCorning7980

产品简介:

The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica

技术参数:

Si3N4薄膜:镀膜方法:lowstressLPCVDmethod低压力化学气相沉积法膜层厚度:1.3um+/-5%镀膜情况:双面镀膜UV级石英UVGradeFusedSilica(Corning0F7980HPFS):常规尺寸:dia100.0(±0.20)mmx0.5(±0.10)mm边缘:CNCGround表面质量:60/40失效区域:2.0mmborderTTV:<20microns抛光情况:双面抛光(60/40)

产品规格:

dia100x0.5mm;10x5x0.5mm10x10x0.5mm

标准包装:

1000级超净室100级超净袋或单片盒包装

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