产品名称： | 康宁7980上镀Si3N4（SiliconNitrideFilm(LPCVD)onCorning7980） |
产品简介： | The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica |
技术参数： | Si3N4薄膜：镀膜方法：lowstressLPCVDmethod低压力化学气相沉积法膜层厚度：1.3um+/-5%镀膜情况：双面镀膜UV级石英UVGradeFusedSilica(Corning0F7980HPFS)：常规尺寸:dia100.0(±0.20)mmx0.5(±0.10)mm边缘：CNCGround表面质量：60/40失效区域：2.0mmborderTTV:<20microns抛光情况：双面抛光(60/40) |
产品规格： | dia100x0.5mm；10x5x0.5mm；10x10x0.5mm |
标准包装： | 1000级超净室100级超净袋或单片盒包装 |
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