无锡冠亚石化TCU温控单元SUNDI-7A10W
无锡冠亚轻工TCU温控单元SUNDI-775
无锡冠亚化工TCU温控单元SUNDI-755
无锡冠亚结晶反应Tcu温控单元SUNDI-735
无锡冠亚制冷加热型循环器
无锡冠亚直通式温度控制单元
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公司目前在单机复叠制冷技术研发方面处于同行业xianjin水平,高低温快速升降温技术研究方面处于国际xianjin水平。特别是反应釜精确控温为国际xianjin的单一介质控制 -90度~+250 度连续控温,并且精确线性控制反应釜物料温度。产品温度范围涉及-152度到350度。
应用汽车种类:
1、混合动力汽车;2、纯电动汽车;3、氢发动机汽车;4、燃料电池电动汽车;5、增程式电动汽车;6、其他新能源汽车;
应用汽车领域:
专用于新能源汽车永磁同步电动机、开关磁阻电机、异步电动机及其控制器测试时的精密控温设备。
冠亚产品优势:
1、液晶控制器面板实现本地+远程控制模式。
2、装载自动故障保障功能,可对外输出相应信号,确保设备工作安全性。
3、主要零件均采用国际品牌,质量保证。
4、外形美观,表面采用高压静电喷塑处理。
5、可根据具体需求添加辅助设备
技术参数:型号温度范围温度反馈流量输出控制流量控制精度加热功率制冷量膨胀阀干燥过滤器输入、显示全密闭系统制冷剂电源 380V 50HZ质量选配

无锡冠亚直通式温度控制单元在运行过程中,如果发生了泄露故障的话,就需要及时有效的解决,那么,vocs废气吸附冷凝回收检漏工作怎么进行呢?
先是需要的工具:三通阀若干、氮气瓶2个(带减压阀)、真空泵、软管、六角扳手、割刀、氧焊设备、肥皂水、盛有水的容器、制冷系统有漏点的vocs废气吸附冷凝回收。有了这些,下面就要开始检漏了。
vocs废气吸附冷凝回收进行高、低压分段检漏。用氧焊方法将毛细管从干燥过滤器中退出,用割刀将压缩机上的吸、排气管割开。毛细管与低压表连接,吸气管与接有氮气瓶的三通阀连接成低压侧壁干燥过滤器与高压表连接,排气管与另一只接有氮气瓶的三通阀连接成高压侧。。先将2个氮气瓶开启,调节各自减压阀,低压侧调节至0.4-0.8MPa,高压侧调节至1.8MPa,再将三通阀开启分别向高、低侧注入氮气。用肥皂水检漏,低压侧蒸发器部分可放入盛有水的容器中检漏。
真空检漏法的话,vocs废气吸附冷凝回收压缩机工艺管上接带低压表的三通阀,三通阀的另一端用软管接在真空泵的吸气口上。开启真空泵电源抽真空,观察低压表压力降至133.3Pa后关闭三通阀阀门,再关掉真空泵电源,12h后再观察压力是否升高。若压力升高则说明制冷系统有漏点。若连续抽真空l-2h后,压力始终降不到133.3Pa(真空泵排气口仍有气体排出),也说明有漏点。
无锡冠亚直通式温度控制单元的检漏工作如上所示,操作人员如果还有其他疑问可以联系相关vocs废气吸附冷凝回收技术人员进行解决。

我们的使命:
聚焦解决客户宽温制冷、加热控温难题和降低制冷、加热系统能耗;
提供有竞争力的系统解决方案和服务,持续为客户创造化价值;
我们的愿景:
成为行业标杆;
我们的价值观:
结果:客户、质量;
做事:团队合作、教学相长;
做人:诚信、激情、敬业、感恩;
我们的成功源自于不懈地帮助客户提高生产力。
报价:面议
已咨询274次制冷加热控温系统
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冠亚恒温半导体chiller 专用于半导体芯片电子行业,配套蚀刻,涂胶,物理气相沉积等装置使用.半导体chiller 保障从前端到后端整体半导体工艺流程稳定可靠.
高低温度循环试验装置chiller主要由热交换器、循环泵、压缩机和控制系统构成的一个自我平衡的循环装置,属于生产过程中的温控设备。在常规PID控制算法的基础上加入了预测控制技术和自适应控制技术,显著地提高了chiller的稳定性、控制精度和响应速度。
高低温保存试验装置chiller是影响燃料电池汽车商业化的因素之一,是指在燃料电池汽车可在以下的温度中成功启动,并可将燃料电池内部温度迅速提升至以满足正常运行需要的性能。
高低温保存试验装置chiller是影响燃料电池汽车商业化的因素之一,是指在燃料电池汽车可在以下的温度中成功启动,并可将燃料电池内部温度迅速提升至以满足正常运行需要的性能。无锡冠亚高低温保存试验装置
低温冷启动试验装置chiller结合高低温试验箱与防冻液制冷加热流量系统,为新能源汽车电池包等提供高温低温防冻液及防冻液的流量、压力控制和1000L高低温试验环境。
适合化工、制药、生化等低温反应设备 应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制
适合化工、制药、生化等低温反应设备 应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制
适合化工、制药、生化等低温反应设备 应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制