这款桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃,对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。
• 陶瓷材料的热冲击测试。
特点:
可以在10s内加热到超高温1800℃;
可以加热后直接水淬;
红外线灯加热提供清洁加热减少灰尘和气体的生成;
紧凑的桌面型设计;
通过USB与电脑连接,输入温度参数;
在加热过程中,在电脑屏幕显示温度。

带水淬的型号:CAS-59AQ
| 温度范围 | 室温-1800℃ |
| 样品尺寸 | W15mm×L15mm×T1mm |
| 样品支架 | 氧化铝或者高纯碳 |
| 加热氛围 | 多种 |
| 热电偶 | JIS B φ0.3 (W-Re可选) |
![]() | | |
![]() |
报价:面议
已咨询1408次材料物理
报价:面议
已咨询1081次超高温高速退火炉
报价:面议
已咨询1135次超高温高速退火炉
报价:¥7
已咨询694次射频导纳
报价:¥85000
已咨询56次橡胶绝缘电阻测试仪
报价:面议
已咨询1388次样品制备
报价:面议
已咨询1487次薄膜半导体材料制备系统
报价:¥2800
已咨询546次高温管式炉\反射炉\气氛炉
箱式电阻炉,又称马弗炉、高温炉,属于大专院校、科研院所、工矿企业等实验室基础加热设备;是材料烧结、熔融、热处理、挥发等实验室必备仪器。
箱式电阻炉,又称马弗炉、高温炉,属于大专院校、科研院所、工矿企业等实验室基础加热设备;是材料烧结、熔融、热处理、挥发等实验室必备仪器。
竖直双镜设计,采用高照度短弧氙灯; 熔区温度:zui高>3000℃; 熔区压力:10-5 mbar 至 300 bar; 多路独立气体流量和气压控制; 丰富的可升级选件。
Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜、高反射曲面设计,高温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......
Z高温度℃:1200 200×120×80
Z高温度℃:1200 300×200×120
Z高温度℃:1000 400×250×160
Z高温度℃:1000 400×250×160