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SU-8 3000光刻胶

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详细介绍

SU-8 3000抗蚀剂经过专门设计,可与MicroChem的SU-8显影剂一起用于浸渍,喷涂或喷浆工艺。 也可以使用其他基于溶剂的显影剂,例如乳酸乙酯和双丙酮醇。 对于高纵横比和/或厚膜结构,也建议强烈搅拌。 表6中给出了浸入过程的建议显影时间。这些显影时间是近似的,因为实际溶解速度会随着搅拌而变化很大。

SU-8 3000具有良好的机械性能。 但是,对于要保留成像的抗蚀剂作为设备一部分的应用,可以在加热板上或对流烤箱中在150-200°C之间将抗蚀剂进行坡道/分步硬烘烤,以进一步使材料交联。 烘烤时间根据烘烤过程的类型和膜厚的不同而不同。


主要用途
SU-8 3000是一种高对比度,基于环氧的光刻胶,专为微加工和其他微电子应用中,
需要化学和热稳定的图像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改进配方,已被广泛采用
由MEMS生产商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。
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