徕卡低真空镀膜仪 Leica EM ACE200

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

主要技术参数：

可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

ZL设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

触摸屏控制，简单方便

真空度7×10-3mbar

溅射电流：0-150mA可调

方形样品仓ZL设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

工作距离调节范围：30mm-100mm